中古 PVA TEPLA 300 #293619367 を販売中
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ID: 293619367
ウェーハサイズ: 8"
Plasma asher, 8"
Quartz plasma chamber, φ9.6", 15" (depth)
Microwave frequency: 2.45 GHz
2-Gas channels with Mass Flow Controllers (MFC)
Optical endpoint detection
Quartz barrel with RF cage
Running hours: 2064
Power supply: 230 V, 13 A, 50/60 Hz.
PVA TEPLA 300は、エッチャー/アッシャー、薄膜用途に使用される物理蒸着(PVD)システムです。Ti、 Cr、 Al、 Cu、 Mo、 Pd、 W、 Re化合物などの耐火材料の薄膜蒸着に広く使用されています。300は広範囲の機能を保持します:それは直径の12インチ(PVA TEPLA 300 mm)までのサイズの基質で、± 2°Cの均等性のRTから750°C (RT=室温)までの範囲の正確な暖房を維持することができます。また、高い蒸着速度と優れた再現性を備えており、集積回路(IC)製造、薄膜スパッタリング、ウェハレベル包装、マイクロ電気機械システム(MEMS)など、さまざまな用途に適しています。300に薄膜の沈殿のための大きい区域が付いているプロセス部屋があります。チャンバーには対称ガスPTFE拡散窓と2つの独立したスパッタガンがあり、直径12インチまでの3つのサセプターまたは2つのウェーハをサポートします。真空システムは0。005 mbarの基盤圧力をプロセスチャンバーに提供し、10 mbarの最高圧力に達することができます。PVA TEPLA 300には、7セグメントディスプレイと抵抗タッチパッドキーパッドを備えた統合デジタルコントローラが装備されています。ユーザーインターフェイスは直感的で使いやすく、基板形状、スパッタガン側、蒸着時間、発光時間、発電力などの蒸着パラメータのプログラミングを簡素化できます。300は、薄膜蒸着プロセスにおいて優れた均一性、再現性、精度を提供します。また、サービスおよびスペアパーツチームによってサポートされており、幅広いアプリケーションに関するテクニカルサポートとアドバイスを提供することができます。
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