中古 PSC DES-212 #9028319 を販売中

PSC DES-212エッチャー/アッシャーは、半導体ウェーハのエッチングおよびアッシング用に設計された包括的なエッチングおよびアッシング装置です。このシステムは半自動エッチャー/アッシャーを備えており、半導体ウェーハやその他の電子部品を安全かつ迅速にエッチングおよび/または灰にします。このユニットには、最大8インチのウェーハを直径8インチまで保持することができる加熱されたプロセッサチャンバーと、プログラマブルデジタルリードアウトがあり、ユーザーは希望するプロセスパラメータを正確に制御できます。DES-212エッチャー/アッシャーは、高度な技術を利用して優れたエッチングとアッシング性能を生み出します。機械のクロスフロー式デュアルガス排気トラップは、腐食性酸エアロゾルの脱出を効果的に最小限に抑え、高性能デュアルCVDポンプは最適な酸配送を保証します。PSC DES-212エッチャー/アッシャーは、高度な制御エレクトロニクスを組み込み、エッチングおよび基板温度の速度を正確に調整します。さらに、このツールには高度なエッチング/アッシングモジュールが含まれており、エッチング/アッシングサイクル中の腐食性液体のオーバーフローを便利に収集するように設計されています。エッチャー/アッシャーDES-212、プロセスチャンバーを正確なエッチングまたはアッシング温度に調整できる、効率的で静かなマイクロプロセッサ制御駆動機構を備えています。その高性能、温度制御ヒートシンクは、競争力のある製品と比較して最も効率的な熱伝達率を提供します。さらに、アセットには自動起動機能があり、ユーザーは目的のプロセスパラメータセットを選択するだけで、エッチャー/アッシャーがエッチングまたはアッシングサイクルを開始します。PSC DES-212エッチャー/アッシャーは、可能な限り最高のプロセス性能を提供しながら、化学的使用量を削減するように設計されています。その全閉室と高度な酸配達モデルは効率的に非常に腐食性の液体の脱出を防ぎます。さらに、密閉されたプロセッサチャンバーは、ユーザーと周辺環境の安全性を確保します。DES-212エッチャー/アッシャーは自動温度制御を提供するように設計されており、ユーザーはいくつかのエッチング/アッシングパラメータから選択できます。PSC DES-212エッチャー/アッシャーは使いやすい機器で、さまざまなラボ設定に簡単に統合できます。