中古 PLASMATHERM Wafer/Batch 740 #293595644 を販売中

PLASMATHERMウェーハ/バッチ740は、高精度プロセス制御を必要とする半導体やその他の産業の多様なニーズに対応するように設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。基板のエッチングやアッシングの精度を極めたオールインワンエッチャー/アッシャーシステムです。このユニットは、精密エッチング機能とプロセスの再現性のために精密にエッチングおよびアッシングプロセスを監視および制御する複数の独立したコントローラを採用しています。このマシンには、エッチャー/ワッシャーチャンバーごとに独立したレシピベースの制御が含まれ、複数のチャンバーが並列に実行されるため、自動で再現可能なプロセス制御が含まれます。統合されたインタラクティブなソフトウェアモジュールを使用すると、ユーザーは正確なプロセス要件を満たすようにエッチャー/アッシャーツールをカスタマイズできます。このアセットには、イベントログとプロセスデータストレージを備えた高度な診断機能と、強力で安全なアクセス制御が備わっています。このモデルは、先進的なマイクロ波増強の誘導結合プラズマ技術を利用して、最高品質のエッチングおよびアッシングプロセスを提供し、基板の汚染を最小限に抑えることができます。複数のプラズマ源を使用すると、装置は1つの統一されたプロセスでエッチングとアッシャーを行うことができます。このシステムは、MEMS、マイクロ流体、および高度なパッケージングなどの高度な製造アプリケーションに適しています。PLASMATHERM Wafer/Batch 740は、プロセス監視および分析スイートを使用して、ユーザーはウェーハの処理中にプロセスパラメータを正確に監視できます。このユニットは強力な自動キャリブレーションとクリーニング機能を備えています。統合された安全およびでき事の制御機械は最も厳密な安全およびプロセス標準の承諾を提供します。さらに、このツールは、統合されたダイ・アライメントとSCARAロボットの研究開発資産を備えています。このモデルは、再現性のある結果と高精度なデバイスを生成することができます。高速で一貫した蒸着プロセスとエッチングプロセスを提供し、さまざまな高度なフラックス加工および金属加工プロセスをサポートします。PLASMATHERMウェーハ/バッチ740は、最も要求の厳しいエッチングおよびアッシング用途の要件を満たしています。非常に柔軟な設計と統合モジュールにより、ユーザーは正確な仕様とプロセス要件を満たす非常に効率的で費用対効果の高いウェーハ処理ソリューションを作成できます。この装置は、半導体および先進的な製造アプリケーションに最適なソリューションです。