中古 PLASMATHERM Versaline #9254663 を販売中
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ID: 9254663
ウェーハサイズ: 3"-8"
ヴィンテージ: 2011
ICP Etcher, 3"-8"
(4) Chambers
(4) PM Modules
Cassette to cassette
BROOKS AUTOMATION MX 600 Handler station
2011 vintage.
PLASMATHERM Versalineは、高分子およびガラス基板の精密誘電エッチングおよび迅速なアッシングのための費用対効果の高いエッチングおよびアッシング装置です。Versalineは、エッチプロセスパラメータを正確に制御するために設計されており、エッチングオーバーシュートを最小限に抑えた均一で繰り返し可能なエッチプロファイルを提供します。RFパワーと様々なプラズマガスを使用して、エッチングの均一性、選択性、プロファイル制御を向上させることができます。PLASMATHERM Versalineシステムは、単一の円形チャックと2段の真空チャンバーで構成されています。チャックには、化学的にエッチングされたプラズマに使用される中心電極があります。4本のガスラインが処理ガスをチャンバーに供給し、チャンバーには前冷式壁とプロセス監視用の石英ビューポートが囲まれています。可動式の垂直RFコイルにより、プラズマエッチングプロファイルを正確に調整できます。このユニットは、50mTorr〜760Torrの圧力範囲で動作し、通気および負荷用のエアロック室を備えています。Versaline etcherはプロセス実行用に設計されており、包括的なユーザーインターフェイスとプロセスレシピエディタを備えています。チャンバとのインタフェースは、Lambdaソフトウェアを使用したPLASMATHERM Versalineコントローラを介して提供されます。Lambdaソフトウェアには、基板温度、圧力、RF電力、およびプラズマ密度の高度なモニタリングマシンが含まれています。プロセスパラメータをリアルタイムに変更して微調整できます。さらに、Versalineツールは、温度制御用の静電チャック、基板回転、薄膜蒸着システムなどの幅広い基板との統合機能など、さまざまな複雑なオプションを提供します。PLASMATHERM Versalineは、分子ナノコンポジット材料、ポリマー、ガラスなどの幅広いサンプル材料の急速な熱処理が可能で、優れた均一性とエッチプロファイル制御を提供します。エッチングプロファイルを正確に制御できるため、高精度のエッチング、アッシング、アニーリングプロセスに最適です。また、ナノスケールのリソグラフィおよびエッチング用途の制御深度とプロファイルを実現するための理想的なツールです。PLASMATHERM Versalineは、ナノメートルスケールのデバイスのための費用対効果の高いエッチングおよびアッシング資産であり、微調整エッチングおよびアッシングシステムを必要とする幅広いラボに理想的に適しています。Versalineは、ナノスケールのエッチング基板に優れた性能、精度、信頼性を提供します。
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