中古 PLASMATHERM Versaline #293592006 を販売中

PLASMATHERM Versaline
ID: 293592006
ウェーハサイズ: 6"
ICP-RIE System, 6" PSS ICP: 4" x 4".
PLASMATHERM Versaline etcher/asherは、半導体製造アプリケーションで優れた性能を発揮するように設計された最先端のエッチングおよびアッシング装置です。このシステムは、さまざまな基板およびプロセス用の幅広いエッチングおよびアッシングソリューションを備えています。Versalineは、柔軟性の高いプロセスチャンバーと幅広い構成を備えています。このチャンバーには独立したガス摂取量と排気量があり、プロセス環境を正確に制御できます。チャンバーのレイアウトには、等方性アッシングゾーンと方向性エッチングゾーンを備えた2ゾーンの可用性があります。これにより、異なるプロセス要件に対応するためにユニットをスケーリングすることができます。PLASMATHERM Versalineは、精密なフラックス制御と高い均一性を提供する高度なマグネトロンスパッタリング源を利用しています。また、クリーンな状態を維持し、プロセスに影響を与える可能性のある汚染物質の量を減らすために、パルスマシンを設置した高効率の真空環境を備えています。チャンバー内の不活性な雰囲気は、最高品質の結果を保証します。さらに、Versalineにはロードロックツールが内蔵されており、ユーザーはエッチング雰囲気を正確に制御できます。このアセットには、コンピューター制御のガスパージモジュールも備えており、正確なガス制御が可能です。PLASMATHERM Versalineはまた、正確な温度制御を備えており、ユーザーは特定の基板やプロセスに最適なプロセス温度を選択することができます。Versalineは低い維持の条件および優秀な性能の精密な、信頼できる操作のために、設計されています。さらに、このモデルは高度な監視と診断機能を備えており、ユーザーはプロセスを効果的に最適化するために必要な情報を提供します。全体として、PLASMATHERM Versaline etcher/asherは、高度で高効率で使いやすい機器で、精密なエッチングとアッシングソリューションを提供します。あらゆる半導体製造アプリケーションに最適なシステムで、ユーザーは最高品質の結果を得ることができます。それは低い維持の条件および優秀なプロセス結果の信頼性そして性能のために、設計されています。
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