中古 PLASMATHERM / UNAXIS VLR 700 #9272287 を販売中

PLASMATHERM / UNAXIS VLR 700
ID: 9272287
ICP System LM Module TM Module Capable of (3) PM modules.
PLASMATHERM/UNAXIS VLR 700は、微細加工プロセスで使用するために設計された真空ベースのエッチャー/アッシャーです。材料の薄膜を高精度で再現性の高い基板にエッチングして堆積させるために一般的に使用されます。装置は真空ロックリアクター室に基づいており、あらゆるプロセスとのシームレスな統合を可能にします。UNAXIS VLR 700は、真空チャンバー、プロセスチャンバー、真空ロックの3つの主要コンポーネントで構成されています。真空チャンバーは、さまざまなアプリケーションにカスタマイズ可能なプログラム可能なサンプルトレイとプロセスチャンバーをサポートしています。サンプルトレイは、サンプル配置とプロセス制御を支援する調整可能な磁石によって所定の位置に保持されます。プロセスチャンバーには、高感度温度制御システム、放射シールド、基板ホルダーが装備されています。真空ロックは、バランスドアシールと複数のポートバルブを使用することにより、最大の気密性を保証します。また、チャンバーを出入りする材料の入口と出口のパスとしても機能します。PLASMATHERM VLR 700の高度なプロセス技術により、エッチング、デポジット、パターンメタル、酸化物、および半導体材料を高精度で再現性の高い速度で処理できます。このユニットは、統合されたプロセスチャンバーと真空マシンを備えており、すべてのプロセス操作が最高の精度とパラメータで制御および監視されることを保証します。デジタルコントローラは、カスタマイズ可能なプロセスパラメータを可能にし、正確で反復可能な結果を得ることができます。VLR 700の設計は、優れた気密性と優れた耐薬品性を提供し、真空ベースのアプリケーションに最適です。このツールの高温耐性(最大850°C)により、高温材料のエッチングが可能です。さらに、PLASMATHERM/UNAXIS VLR 700にはカスタムメイドのソフトウェアパッケージが装備されており、すべてのパラメータ設定、プロセスデータ、パフォーマンスデータに簡単にアクセスでき、プロセスの設定と監視が容易になります。全体として、UNAXIS VLR 700アセットは信頼性が高く汎用性の高いエッチャー/アッシャーであり、半導体エンジニアリングから微細加工までのアプリケーションに最適です。高度なプロセス技術、高温耐性、信頼性の高いシールにより、PLASMATHERM VLR 700は、信頼性の高いエッチャー/アッシャーをお探しのお客様に最適です。
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