中古 PLASMATHERM / UNAXIS Versalock 700 #9311007 を販売中
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ID: 9311007
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2000
PECVD System, 4"
(2) Process chamber
Load lock
Wafer handler
PM1:
For HDCVD
Gases: SiH4, N2, NH3, N2, O2, Ar, SF6
Wafer type: Mechanically clamped wafers
PM2:
For PECVD
Gases: SiH4, N2O, NH3, N2, CH4, He, SF6
Wafer type: Electrostatic chuck
Removed parts:
PM1:
Roots blower package
Gas box exhaust switch
NESLAB Chiller
Vacuum tees
He MFC for wafer backside
ENI (Bias) RF Generator
ICP RF Match network
RF Cables
Match position controllers
PM2:
Roots blower package
Air regulator assembly
Gas box exhaust switch
NESLAB Chiller
PM7 Controller
RF5S RF Generator
Waterflow sensor
RF Feedthrough
N2O MFC (PM2)
RF Cables
Match position controllers
Missing parts:
Capacitor housing for ICP
BROOKS AUTOMATION Robot for wafer handler
2000 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS Versalock 700は、精密で高精度なエッチング用途向けに設計されたエッチャーおよびアッシャーです。ユーザーに高品質、高精度、再現性を提供するように設計されています。UNAXIS Versalock 700は、プロセス加速のために最大28nm/minの高速エッチング速度を可能にする産業グレードのエッチャーおよびアッシャー装置です。PLASMATHERM VERSA LOCK 700は、柔軟性とパフォーマンスのために複数のゾーンを備えた、自動化、モジュール化、および構成可能なシステムです。精密真空およびガス配列、熱制御、プロセスプロファイルの最適化により、比類のない精度と再現性を提供するように設計されています。PLASMATHERM/UNAXIS VERSA LOCK 700は、超高解像度のイメージングとポジショニングにより、優れたアライメントと再現性を実現し、優れた選択性とエッチング速度を実現します。また、クローズドループ監視とプロセス最適化のための高度な赤外線CCDカメラユニット、および高性能エッチング、クリーニング、フォトマスク認識、およびO2エッチングのための複数のツールゾーンが装備されています。PLASMATHERM Versalock 700には、効率的で人間工学に基づいた設計が施されています。包括的な監視機能とトラブルシューティングツールを備え、既存のシステムにシームレスに統合できるように設計されています。温度制御された石英チャンバーで構築されており、プロセス温度を正確に制御できます。Versalock 700は可変圧力源を備えており、幅広いアセンブリで優れたプロセス制御と結果の再現性を実現します。全体的に、UNAXIS VERSA LOCK 700は、精度、再現性、および優れた品質性能のために設計された高性能エッチャーおよびアッシャーマシンです。これは、最も要求の厳しいエッチングおよびアッシングのアプリケーションを満たすように設計された多数の機能を備えており、高度に構成可能でモジュール化されており、優れた精度と生産性を提供します。
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