中古 PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1 #9283558 を販売中

PLASMATHERM/UNAXIS CONCEPT 1は、精密なナノスケールパターン形成のための高度なエッチャー/アッシャー装置です。高圧、高温の誘導結合プラズマ源と独自のモジュール式サンプル転送機構を組み合わせ、パフォーマンスとスループットを向上させます。このシステムは、ナノスケールからマイクロメータスケールまで、幅広い材料の高精度で再現可能なエッチングとアッシングが可能です。このユニットには、大気圧で動作する高精度制御の誘導結合プラズマ源と、ウェーハ間の変動を最小限に抑えるためのチャック表面のin-situクリーニングが含まれています。プロセスガスは、エッチング/灰プロセスを管理するためのフロー制御と化学反応制御の両方の可用性を備え、3ゾーンのガス分布を使用して正確に調整することができます。サンプル転送メカニズムは、サンプル間の変動を最小限に抑えるように設計されているだけでなく、動きの柔軟性と制御を提供し、迅速なツールのセットアップを容易にします。ウェーハの向きとレシピストレージにより、複雑なエッチングおよびアッシングプロセスの実行時間を高度に最適化できます。UNAXIS CONCEPT 1は、自律的で高度に制御されたウェーハレベルの環境制御も提供し、プロセスの品質と再現性に対するツールとウェーハの影響を最小限に抑えます。機械には、さまざまなイオンゲッターおよび圧力制御、ならびにチャンバークリーニングおよび再現可能なガス供給最適化のための注射可能なガスラインが装備されています。このツールは、ユーザーフレンドリーなソフトウェアとハードウェアツールを提供し、資産を制御および指揮します。さらに、このモデルには特許取得済みのサンプル専用ガス供給装置が装備されており、数ナノメートルまでのエッチングとアッシング条件を最適化できます。PLASMATHERM CONCEPT 1の不可欠な部分は、新開発のエッチング監視システムであり、プロセスのリアルタイム制御を提供します。このユニットは、最適なプロセス制御を可能にする2つの温度センサと圧力センサーを含むシーケンシャルセンサスタックを備えています。また、エッチングプロファイルを監視する非接触センサーも搭載しています。CONCEPT 1の高度な技術により、幅広いナノスケールのデバイス製造プロセスに適しています。ハードウェア/ソフトウェアツールの独自の組み合わせと反復可能なパフォーマンスにより、バリエーションを大幅に削減した超小型機能の生産が可能です。これにより、半導体生産アプリケーションに最適です。