中古 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #293597269 を販売中

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ID: 293597269
ウェーハサイズ: 2"-8"
ヴィンテージ: 2006
Reactive Ion Etcher (RIE), 2"-8" 2006 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790は自動エッチャーとアッシャーです。これは、無線周波数(RF)エネルギーを使用して直径150mmまでの基板をエッチングおよびアッシングするために設計されています。ウェーハエッチング、表面洗浄、リソグラフィ、マイクロエレクトロニクスデバイス製造など、さまざまな用途に適しています。UNAXIS 790は使いやすいインターフェイスと完全に自動化されたプロセスシステムを備えています。高度なプロセス制御アルゴリズムにより、基板表面全体の均一なエッチングとアッシングの結果が保証されます。チャンバは30WのRF電源でフラッシュすることができ、チャンバ寿命を延ばすために低い電力レベル(200W)に設定することもできます。プラテンの温度は100から400°Cの間で調節することができ部屋の中の圧力は0。1-1。0mbarの間で調節することができます。基板温度も監視・調整できます。基板沈着時間、エッチング速度、基板温度などのプロセスパラメータを簡単に設定・調整できます。プロセスガスや濃度を制御することもでき、乾燥プロセスガスまたは液体プラズマのいずれかを使用するようにPLASMATHERM 790を構成することができます。O2とXeF2、 H2/SF6、 SF6/D2、 Ar/CF4/CO2、 Ne/CO2など、さまざまなガスと液体の組み合わせがあります。790には、温度、圧力、持続時間、RF電力などの重要なプロセス情報を記録する組み込みのプロセス監視およびデータ収集システムが付属しています。このデータはリアルタイムで見ることができ、迅速かつ簡単なプロセス最適化を可能にします。マルチモード制御により、バッチ処理の効率が2倍になり、スループットが向上します。内蔵の安全機能により、適用される安全規制に準拠した安全性が保証されます。PLASMATHERM/UNAXIS 790は、研究および業界アプリケーション向けの信頼性が高く、効率的なエッチングおよびアッシングソリューションです。精密プロセス制御、自動化されたメンテナンスシステム、高度なプロセス監視およびデータ収集機能により、オペレータの介入を最小限に抑えながら高品質な結果を保証します。
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