中古 PLASMATHERM / UNAXIS 760 #9314655 を販売中

UNAXISのPLASMATHERM/UNAXIS 760エッチャー/アッシャーは、プラズマエッチングおよびアッシングプロセス用に設計された先進技術チャンバーです。UNAXIS 760は、密閉チャンバ内に高純度環境を構築することにより、信頼性と再現性に優れた微細加工を実現します。この精密ウェットエッチャーとアッシャーは、シングルエンドまたはデュアル周波数の高周波電源を使用して、高い再現性と高精度のエッチングとアッシングを可能にします。PLASMATHERM 760に0。1から1 Torrの間の可変的な動作圧力および-20から100°Cの間の温度が付いている熱絶縁されたエッチングおよびashing部屋があります。760年の高精度エッチングプロセスは、RFバイアス発生器と高度なプロセス制御モジュールによって実現されています。直径250mmまでの調節可能なクラムシェルカバーは、サンプルの簡単なインストールとアンロードを提供します。このユニットは、さまざまな異方性および等方性エッチングプロセスを可能にし、シリコン、二酸化ケイ素、ポリイミドなどの材料に最適なエッチング率を実現します。PLASMATHERM/UNAXIS 760は、自動ガスセーフティシャットオフ、排気システムの安全性、プロセス圧力障害検出、および過電流シャットオフなどの高度な安全性を備えています。また、オゾンやCO2スクラバーも備えており、高い再現性と低い破片チャンバーを実現しています。ユニットのローダーとロボフィーチャーにより、柔軟で自動的なウェーハ処理が可能です。UNAXIS 760のロボットセルを最小4個から最大8個のカセットスロットに拡張でき、ユニット上のウェーハのバッチの自動スキャンとエッチング処理が可能です。高度なChamberViewテクノロジーにより、チャンバーへのリモートアクセスが可能になり、チャンバーの制御パラメータを監視し、アラームを受信し、任意の場所からコマンドを送信することができます。オープンなWindowsベースのプラットフォームMonitorソフトウェアは、エッチングプロセスを監視、制御、および文書化するための便利でユーザーフレンドリーなプラットフォームです。全体として、PLASMATHERMのPLASMATHERM 760は、高精度エッチングおよびアッシング用途に効果的かつ効率的なソリューションです。高精度な制御、自動ウェーハ処理機能、高度なリモートアクセス機能、洗練されたチャンバー設計により、760はさまざまなエッチング要件に最適です。