中古 PLASMATHERM SLR/ECR #9123962 を販売中

ID: 9123962
ウェーハサイズ: 2"-8"
ヴィンテージ: 1996
Plasmatherm ECR microwave etcher, 2"-8" Astex model AX2100 -1000W Micorwave generator Astex 27V, 185 amp ECR power supply Astex 20V, 125amp ECR power supply Neslab TU-1 chiller Leybold D65BCS, D16B, RFPP RF5S power supply with AM-5 MKS 286 Controller MKS 290 Ion gauge controller VAT PM5 Pressure controller (6) MFC - CL2,Ar,O2,N2,O2,CF4, N2 purge 208V, 3phase 60amp 1996 vintage.
PLASMATHERM SLR/ECRは、半導体製造プロセスの精度と再現性を考慮して設計されたエッチャー/アッシャーです。PLASMATHERMは、各種プラズマプロセスの機器およびソリューションのリーディングプロバイダーです。SLR/ECRは、さまざまなエッチングおよびアッシング処理に使用され、シングルウェーハとバッチ処理の両方を組み合わせているため、低汚染で最適なエッチングおよびアッシング性能を備えています。PLASMATHERM SLR/ECRは、さまざまな形状や材料のさまざまなウエハサイズに最適で、幅広い動作温度を提供します。1300°Cまで。エッチャー/アッシャーには、精密な運動装置とリモートビジョンシステムが装備されており、ユーザーはプロセスをリアルタイムで監視し、必要に応じて調整することができます。リモートビジョンユニットはまた、リモートコントロールインターフェイスを提供し、ユーザーは遠隔地からエッチングとアッシングのプロセスを監視および制御することができます。SLR/ECRは、正確で安定したフローとフローミキシングを提供する高度なガス供給機を備えており、精密で再現性のあるエッチングとアッシングの結果を可能にします。このツールは、一貫した動作条件を確保するために、一連の組み込み温度センサも提供します。温度センサはまた、処理チャンバ内の熱条件に関するユーザーへの迅速なフィードバックを提供し、プロセスの過熱または冷却を防止します。さらに、PLASMATHERM SLR/ECRには、処理中にユーザーとコンポーネントの両方を保護するさまざまな安全機能が搭載されています。危険物質への偶発的な暴露を防ぐための安全インターロック機構を備えていますが、リモートビジョンアセットは急激な動きや圧力の急激な変化を監視します。保護カバー付きのUV吸収窓は、潜在的な紫外線からユーザーを保護します。PLASMATHERM SLR/ECRは、半導体製造プロセスにおける最高水準の精度と再現性を満たすように設計されており、さまざまな材料およびウエハサイズのエッチングおよびアッシングプロセスに最適です。その先進的なガス供給モデル、リモートビジョン機器、温度センサー、および安全機能は、産業および研究用途の両方に最適です。
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