中古 PLASMATHERM SLR 772 #9195260 を販売中

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ID: 9195260
ウェーハサイズ: 4"
Etcher, 4" Adapter plates for 2" ALCATEL 5900 Turbo pump 700W ASTEX Microwave power supply: 2.45 GHz RF 5S 555W RF supply: 13.56 MHz Ultra low cooling option: Down to -150°C with LN2 Loadlock (Semi manually controlled with switches) TEKTEMP TKD-100 Heat exchanger ASTEX 1000W Microwave supply Spare ECR head Aluminum showerhead assembly Cooling ring for etch option Deos not include load lock pump Main console electronics Process / Sequence controller Core interface 252C-1-5 Exhaust valve controller AM-5 700 RF Matching network Fixed capacitance loading: 600 pF DC Probe range: 1000 V AMNPS-2A 700 Matching network power supply 290-03 Ion gauge controller 286 Thermocouple gauge controller Heater control box RF-5S RF Generator Output power: 555 Watts, 13.56 MHz HS-700 Microwave generator Output power: 700 Watts, 2.45 GHz Gas panel: Chamber 1: CH1 N2 FSF 20 SCCM CH2 N2 FSF 50 SCCM Chamber 2: CH1 C12 FSF 20 SCCM CH2 N2 FSF 20 SCCM Fluid input panel: Air regulator setting: 80 Psi Pressure switch: 70 Psi Input requirements: Compressed air: 80 Psi Nitrogen: 20 Psi Water: 20 Psi System power center: Line voltage: 208 VAC Maximum current: 60 Amps, 4-wire Motor starter overload current setting Mechanical pump: 6 Amps Vacuum pumps: 023-241 Lock mechanical pump Fluid type: Fomblin 14-6 Charge: 6 Kg TDK 100 Temperature control system Fluid type: 50/50 Glycol Local setpoints CH1: 25°C Aluminum chamber lid with 10" shower head Power: 208 V, 60 Hz, 100 Amp Manuals included.
PLASMATHERM SLR 772は、半導体エッチング、材料研究、薄膜成膜などのアプリケーションに高精度のプロセス機能を提供する最先端のエッチャー/アッシャーです。高度な設計により、SLR 772は高精度、再現性、エッチングおよびアッシングプロセスの均一性を提供します。この装置はスパイラルシャワーヘッド設計を採用しており、エッチングチャンバーとウェーハコンベアへの均一で安定した容易なアクセスを提供します。シャワーヘッドは正確に均一なプロセスパラメータをウェーハに供給し、正確で均一なエッチングとアッシングを保証します。PLASMATHERM SLR 772は、直径5インチまでのウェーハ処理が可能で、最大3mTorrの圧力と、迅速なセットアップと実行時間を可能にする自動圧力制御機能を提供します。内蔵の内蔵真空ゲージは、プロセスと校正の検証を提供し、ウェーハの温度をリアルタイムで監視するために使用できます。SLR 772に付属する高度なソフトウェアは、パラメータカスタマイズによって複雑なプロセス最適化を可能にします。カセットローディングとアンロードによる自動ウェーハ処理により、システムのダウンタイムを最小限に抑えます。調節可能なエッチング/加工チャンバーにより、さまざまなウェハサイズを迅速かつ正確に処理できます。さらに、エッチング処理は、詳細なプロセス分析を提供する統合コンピュータビジョンユニットを介して監視することができます。PLASMATHERM SLR 772は、浅いトレンチ絶縁(STI)エッチング、ゲートエッチング、コンタクトホールエッチング、埋め込みゲートエッチング、ポリシリコンエッチングなど、さまざまなエッチングおよび処理アプリケーションを提供します。このマシンは非常に高いプロセスレートを提供し、プロセス時間は5秒です。エッチング工程は、プラズマ蒸着などの他の工程と組み合わせることができ、高いスループットでデバイスを製造することができます。SLR 772は、高いプロセス効率と再現性で一貫した再現性のある結果を提供するさまざまなアプリケーション要件に最適です。高度な機能と柔軟性を備えたPLASMATHERM SLR 772は、エッチングおよびアッシング用途に最適です。
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