中古 PLASMATHERM SLR 772 #9195260 を販売中
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販売された
ID: 9195260
ウェーハサイズ: 4"
Etcher, 4"
Adapter plates for 2"
ALCATEL 5900 Turbo pump
700W ASTEX Microwave power supply: 2.45 GHz
RF 5S 555W RF supply: 13.56 MHz
Ultra low cooling option: Down to -150°C with LN2
Loadlock (Semi manually controlled with switches)
TEKTEMP TKD-100 Heat exchanger
ASTEX 1000W Microwave supply
Spare ECR head
Aluminum showerhead assembly
Cooling ring for etch option
Deos not include load lock pump
Main console electronics
Process / Sequence controller
Core interface
252C-1-5 Exhaust valve controller
AM-5 700 RF Matching network
Fixed capacitance loading: 600 pF
DC Probe range: 1000 V
AMNPS-2A 700 Matching network power supply
290-03 Ion gauge controller
286 Thermocouple gauge controller
Heater control box
RF-5S RF Generator
Output power: 555 Watts, 13.56 MHz
HS-700 Microwave generator
Output power: 700 Watts, 2.45 GHz
Gas panel:
Chamber 1:
CH1 N2 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 50 SCCM
Chamber 2:
CH1 C12 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 20 SCCM
Fluid input panel:
Air regulator setting: 80 Psi
Pressure switch: 70 Psi
Input requirements:
Compressed air: 80 Psi
Nitrogen: 20 Psi
Water: 20 Psi
System power center:
Line voltage: 208 VAC
Maximum current: 60 Amps, 4-wire
Motor starter overload current setting
Mechanical pump: 6 Amps
Vacuum pumps:
023-241 Lock mechanical pump
Fluid type: Fomblin 14-6
Charge: 6 Kg
TDK 100 Temperature control system
Fluid type: 50/50 Glycol
Local setpoints CH1: 25°C
Aluminum chamber lid with 10" shower head
Power: 208 V, 60 Hz, 100 Amp
Manuals included.
PLASMATHERM SLR 772は、半導体エッチング、材料研究、薄膜成膜などのアプリケーションに高精度のプロセス機能を提供する最先端のエッチャー/アッシャーです。高度な設計により、SLR 772は高精度、再現性、エッチングおよびアッシングプロセスの均一性を提供します。この装置はスパイラルシャワーヘッド設計を採用しており、エッチングチャンバーとウェーハコンベアへの均一で安定した容易なアクセスを提供します。シャワーヘッドは正確に均一なプロセスパラメータをウェーハに供給し、正確で均一なエッチングとアッシングを保証します。PLASMATHERM SLR 772は、直径5インチまでのウェーハ処理が可能で、最大3mTorrの圧力と、迅速なセットアップと実行時間を可能にする自動圧力制御機能を提供します。内蔵の内蔵真空ゲージは、プロセスと校正の検証を提供し、ウェーハの温度をリアルタイムで監視するために使用できます。SLR 772に付属する高度なソフトウェアは、パラメータカスタマイズによって複雑なプロセス最適化を可能にします。カセットローディングとアンロードによる自動ウェーハ処理により、システムのダウンタイムを最小限に抑えます。調節可能なエッチング/加工チャンバーにより、さまざまなウェハサイズを迅速かつ正確に処理できます。さらに、エッチング処理は、詳細なプロセス分析を提供する統合コンピュータビジョンユニットを介して監視することができます。PLASMATHERM SLR 772は、浅いトレンチ絶縁(STI)エッチング、ゲートエッチング、コンタクトホールエッチング、埋め込みゲートエッチング、ポリシリコンエッチングなど、さまざまなエッチングおよび処理アプリケーションを提供します。このマシンは非常に高いプロセスレートを提供し、プロセス時間は5秒です。エッチング工程は、プラズマ蒸着などの他の工程と組み合わせることができ、高いスループットでデバイスを製造することができます。SLR 772は、高いプロセス効率と再現性で一貫した再現性のある結果を提供するさまざまなアプリケーション要件に最適です。高度な機能と柔軟性を備えたPLASMATHERM SLR 772は、エッチングおよびアッシング用途に最適です。
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