中古 PLASMATHERM SLR 770 ICP #9363201 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 9363201
ウェーハサイズ: 3"-6"
ヴィンテージ: 1997
ICP Dry etcher, 3"-6"
RFPP AM-5 RF Match
ISA JOBIN YVON Sofie type LEM-1-CC controller
(4) Mass flow controllers
1997 vintage.
PLASMATHERM SLR 770 ICPは、精密エッチングおよびアッシングプロセスを提供するように設計された高精度エッチャー/アッシャーです。モジュラープラットフォームを使用して、幅広いエッチングおよびアッシングプロセスを提供します。このエッチャー/アッシャーは、メンテナンスと再現性のエラーを最小限に抑えて、継続的で繰り返し可能なプロセスを提供するように設計されています。PLASMATHERM SLR-770 ICPは、エッチングに低圧等方性の乾燥プラズマを利用した2チャンバーエッチャー/アッシャーと、アッシング用の高圧乾燥プラズマです。低圧プラズマはプラズマ発生器から供給され、酸素、窒素、アルゴンで構成されています。高圧プラズマはドライスパークパターンを使用して低電圧の電気アークを生成し、気化した気化灰添加剤を生成します。2つのプラズマが結合され、アイソレータチャンバー内に保存されます。材料の燃焼は、前処理フェーズ中にPCによって開始され、エッチングまたはアッシング処理中に継続されます。材料が2つのプラズマの組合せによってエッチングされるか、またはashedであるので、部屋は有害な反作用を避けるために窒素とそれからパージされます。SLR 770 ICPは、半導体や誘電体基板などのエッチング/アッシュ耐性材料を使用するように設計されています。エッチャー/アッシャーは、精密で再現性のあるエッチングとアッシングのプロセスを提供し、一貫したパフォーマンスを保証するように設計されています。このチャンバーには、高温シャットオフ、地上障害遮断器(GFI)、制御回路、および高電圧絶縁などの複数の安全機能も装備されています。高精度エッチャー/アッシャーは、最先端のVHF-Arcプラズマ技術を使用し、完全にコンピュータ制御されています。これにより、エッチングと灰の時間、温度、圧力など、幅広いプロセスパラメータを設定および保存できます。このプロセスは、Quartz Oscillator、 Temperature、 Pressureなどのさまざまなセンサーを使用して定量化および測定されます。これにより、複数の基板にわたって制御および再現可能なプロセスを実行できます。大型LCDディスプレイと直感的なユーザーインターフェースにより、ICP SLR-770操作が簡単になります。さらに、このマシンにはプロセスチャンバーモニターカメラを装備することができ、ユーザーはプロセスチャンバをリアルタイムで監視することができます。これにより、品質保証の層が追加され、プロセスが正しく実行され、その後の基板上でプロセスが繰り返されるようになります。全体として、高精度のPLASMATHERM SLR 770 ICPは、エッチングおよびアッシングプロセスの信頼性と費用対効果の高いツールとして設計されています。モジュール式プラットフォーム、高度なVHFアークプラズマ技術、高電圧絶縁、使いやすさ、および高精度により、PLASMATHERM SLR-770 ICPは信頼性の高いエッチャー/アッシャーソリューションを求めるユーザーにとって魅力的な選択肢となります。
まだレビューはありません