中古 PLASMATHERM SLR 720 #9123968 を販売中
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ID: 9123968
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 1999
Reactive Ion Etcher (RIE), 4"
Plasma shuttle-lock load-lock loading system
Platen transfer 700 Al Chamber
PC Window based system, 11"
ADVANCED ENERGY RFPP RF Generator 500 W
Matching network
(2) Mechanical pumps
NESLAB HX 75 Chiller
LEYBOLD 361C Turon
LEYBOLD NT 150/360 Controler
Gas distribution center
(4) Mass flow controllers: BCl3-100, Cl2-50, O2-100, N2-50
Manuals included
Power supply: 208 V, 3-Phase
1999 vintage.
PLASMATHERM SLR 720は、高度な材料の精密エッチングとアッシング用に設計されたプラズマエッチャー/アッシャーです。SLR 720は、高速、精度、均一性を備えたエッチングおよびアッシングが可能なため、半導体業界の幅広いエッチングおよびアッシング用途に最適です。PLASMATHERM SLR 720は、最大800nm/minの標準エッチング速度を持つハイスループットデバイスです。また、デュアルチャンバーエンジンと4チャンネルRFジェネレータを利用した効率的なプラズマ源も備えています。これにより、低イオンエネルギーで高性能なエッチング処理が可能になり、ウェーハ全体の均一性に優れています。さらに、SLR 720には高度な制御システムがあり、ユーザー定義のパラメータを入力および制御することができます。これらのパラメータには、エッチングおよびアッシングパラメータ、RFジェネレータ設定、およびチャンバー圧力が含まれます。PLASMATHERM SLR 720には、使いやすく、直感的でユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)が含まれており、エッチングとアッシングプロセスを完全に制御できます。また、3Dビジュアライゼーションツールを備えているため、ユーザーはエッチングと灰プロセスをリアルタイムで表示でき、ウェーハ全体での安定性と均一性が向上します。SLR 720は、エッチングとアサーンに乾燥した低圧(DLPO)プロセスを使用します。このプロセスは、高いガス流量を利用してイオンと反応ガスを侵入させ、エッチングとアッシングのスループットを高め、処理時間を短縮することができます。PLASMATHERM SLR 720は、ガスや圧力の安全監視、自動ガスシャットオフ、マニホールドコントロールユニットなどの高度な安全機能も備えています。これにより、さまざまな安全に重要なアプリケーションでの使用に適しています。全体的に見ると、SLR 720は半導体業界のさまざまなエッチングおよびアッシング用途に最適です。高性能、高速、高精度な動作により、エッチングおよびアッシング用途において、一貫した結果と信頼性の高い性能を求める業界にとって信頼できる選択肢です。
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