中古 PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9386140 を販売中

PLASMATHERM Gen 4 マスクIVは、さまざまな産業用途で使用されるエッチャーおよびアッシャーです。精密エッチングとアッシングプロセスのためのソリューションを提供するために、さまざまな材料で動作するように設計されています。RF/DCジェネレータを内蔵しており、広いプロセスウィンドウと低消費電力の高出力エッチングが可能です。このエッチャーとアッシャーは、調節可能な基板ホルダーを備えており、平らな基板と上げ基板の両方での使用に適しています。エッチャーとアッシャーは、最大13。5 x 13。5インチのマスクサイズと、最大0。4インチのクリアランスを備えたカスタマイズ可能な基板ホルダーを使用しています。基板ホルダーは、エッチングおよびアッシング処理中に基板の正確な操作と位置決めを提供します。それは適切なシーリングを保障するために空気のシーラーおよびドアのオープナのメカニズムを特色にします、また4-200Wの最適RF RFのエッチングプロセスのための統合されたRFの電源。Gen 4 Mask IVには、ユーザーフレンドリーなセットアップと操作のための高度なPLASMATHERM Vision Control Equipmentも搭載されています。このシステムは、マイクロ波パワー、スキャンレートなどの精密なプロセス制御を可能にするリアルタイムエッチプロセス制御パラメータを表示します。さらに、基板のロケータビリティのための組み込みOCR補助ユニットを備えています。データ駆動方式で多層基板の画像を解析することで、基板上のターゲットを自動的に探し出すことができます。PLASMATHERM Gen 4 Mask IVにはオプションのリモートパネルインターフェイスが付属しており、便利な遠隔操作を提供するだけでなく、エッチングレシピの保存と検索を可能にするレシピ管理ツールも付属しています。エッチャーとアッシャーの動作温度範囲は0-35Cで、幅広いプロセスに適しています。全体として、Gen 4 Mask IVは、さまざまな産業用途向けの高性能エッチングおよびアッシングソリューションです。ユーザーフレンドリーな操作と一連の高度な機能により、精密エッチングとアッシングプロセスに最適なソリューションです。