中古 PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9304311 を販売中
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ID: 9304311
Plasma etchers
(3) Chambers
Mask size: 152mm
SMIF pod loader
Buffer station
Load Module (LM)
Transfer Module (TM)
Types of pods: RSP types - ENTEGRIS PEEK pod, GUDENG PEEK pod and ENTEGRIS ABS pod
Buffer station: Mask staging with positive air flow mini environment
Operating system: Windows NT
(3) Process modules (PM): PM1, PM2, PM3
Module: Gen4
Process: Quartz (PM1), MoSi (PM2), Chromium (PM3)
SEIKO SEIKI Turbo pump
Turbo size: 1300 L/sec
PM1:
Channel / DET41 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 5
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 200
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 200
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / CHF3 / 200
CH-08 / H2 / 100
PM2:
Channel / DET42 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 100
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 20
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 100
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100
PM3:
Channel / DET43 / MFC sccm
CH-01 / CL2-toxic / 200
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 50
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 25
CH-06 / N2 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100.
PLASMATHERM Gen 4 Mask IVは、幅広い素材や基材に精密なエッチングとアッシングの結果を得るために設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。この機械は良質のエッチングされ、灰にされた部品を作り出すために理想的で、優秀な正確さおよび再現性を提供します。Gen 4 Mask IVは液晶タッチスクリーンディスプレイを備えており、ガスの種類、圧力、時間などのさまざまなプロセスパラメータを制御できます。さらに、このマシンは、各プロジェクトの特定のニーズに応じて簡単にプログラムできる自動制御システムを備えています。PLASMATHERM Gen 4 Mask IVには、一貫した結果を達成するために必要なガス流量と温度の均一性と精度を保証する最新のベンチュリ式ガス装置が装備されています。さらに、ターンアラウンドタイムを短縮するための優れたエッチングとアッシング速度を提供する高度なプラズマソースシステムを搭載しています。さらに、Gen 4 Mask IVは基板のプラズマ損傷を最小限に抑えるように設計されており、プロセス精度と高い生産歩留まりを可能にします。PLASMATHERM Gen 4 Mask IVには、ユーザーが複数の事前定義された温度プロファイルから選択できるユニークなマルチバルブ熱調節システムも含まれています。このユニットは、0〜200°Cの広い温度範囲で設計されており、ユーザーはエッチングおよびアッシング要件に最適な条件を作成する柔軟性を提供します。さらに、Gen 4 Mask IVは非常に簡単にインストールして使用できます。直感的なユーザーインターフェイスにより、効率的な操作が保証され、ユーザーはプロジェクトを現場から解放するために必要なすべての情報にすばやく簡単にアクセスできます。さらに、歩留まりを高め、プロセスの安定性を向上させるために、動作温度を下げる高度な空冷機を装備しています。PLASMATHERM Gen 4 マスクIVは、幅広い素材や基材に精密なエッチングとアッシングの結果を達成するための理想的なエッチャーとアッシャーです。その高度な機能とユーザーフレンドリーな設計により、このマシンは、正確な仕様を満たす高品質のコンポーネントを作成するために必要な柔軟性と精度をユーザーに提供します。
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