中古 PLASMATHERM 790 #9296262 を販売中

ID: 9296262
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
PECVD System, 8" RIE Dual chamber Manual load Non-load lock RFPP RF5S RF Power supply with matching network RF 350W Power supply LEYBOLD Turbo pump Gas distribution panel: (4) MFCs Operating system: Windows 1998 vintage.
PLASMATHERM 790は、高度で高精度なエッチングおよびアッシング装置です。エッチング・アッシングシステムのリーディングカンパニーであるPLASMATHERMが開発した最新モデルです。790は、エッチング、アッシング、ディープリアクティブイオンエッチング(DRIE)など、さまざまな用途向けに設計されたシステムです。大面積基板(最大433×390mm)のエッチングが可能で、プロセス再現性に優れています。PLASMATHERM 790は、ガス消費を最小限に抑え、機械性能を最適化する革新的な構成を備えています。大容量真空システム用のロープロファイルターボポンプと、メンテナンスが容易な広いチャンバー設計を備えています。それは200 mbar真空圧力および300°C。までの温度較差以上作り出すために評価されます。790は、ユーザーがエッチングプロセスをプログラムし、監視することができます統合された制御ユニットと安全ツールを持っています。クリーンインプレイス技術と柔軟な安全プロトコルを備えているため、資産の過負荷を監視および保護できます。PLASMATHERM 790は、金属やガラスからプラスチックやポリマーまで、幅広い基板に対応できる汎用性の高いエッチャーおよびアッシャーです。薄膜、透明材料、小型化されたデバイスなど、さまざまな敏感な材料で動作するように設計されています。さらに、790は、精密な電気化学およびプロセス手順を実行する機能など、さまざまなハードウェアとソフトウェアのアップグレードを提供しています。高度なエッチングレシピを提供し、大規模なバッチ処理機能を備えた高精度エッチングを可能にします。PLASMATHERM 790は、高品質のエッチング部品を生産することができる、強力で信頼性の高いエッチャーとアッシャーです。その高いプロセス再現性は、優れたエッチング結果を提供し、最適なプロセス制御と柔軟性を可能にします。高精度のエッチングと灰処理を必要とするアプリケーションに最適なモデルです。
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