中古 PLASMATHERM 790 #9124022 を販売中

ID: 9124022
ウェーハサイズ: 2"-6"
ヴィンテージ: 1993
PECVD Deposition system, 2"-6" PC OS controlled 8" Electrode Advanced Energy RFPP - RF5S power supply Gas panel: 5 MFCs- N2, SiH4, NH3, N2, CF4 NESLAB RTE III Chiller Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz 1993 vintage.
PLASMATHERM 790は、さまざまな研究開発および生産アプリケーション向けに設計された高精度エッチャー/アッシャーです。強力で安定した精密なプラズマ源を搭載し、最適な高い選択性を実現します。この装置は、高度なマイクロ波プラズマ技術を使用して、最大のエッチングと灰の再現性、プロセス精度、および全体的な品質管理を実現しています。790は、高度なレーザーベースの制御システムと高効率プラズマエミッタとともに、堅牢なRF電源を使用して、正確なプロセス制御とカスタマイズされたスループットを実現します。このユニットの中核には、特許取得済みのASI (Atomistic Machine Interface)があり、各処理ステップを個別にプログラムする機能を提供し、複雑な処理と要求の厳しい要件を可能にします。このツールは、さまざまなパラメータを介して微調整できるプロセス最適化のための高度なタイムプロセスを提供します。また、均一なエッチング深度とプロセスジオメトリを達成するのに役立つ高度な制御ツールが装備されています。さらに、PLASMATHERM 790には、高速で信頼性の高い再現性機能が含まれており、本番稼働中に結果の一貫性を確保します。このアセットは、ガスエッチング、高圧および低圧プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング(RIE)、ナノ構造化など、高度なCADモデリング、モデリングアニメーション、統合された光学検査を使用してシングルウェハランに統合することができます。このモデルはまた、プラズマ源の比類のない制御を提供する統合された2段階真空装置を備えており、システムに優れたプロセス汎用性を与えます。さらに、790には、温度監視、RFフラッディング、プロセス評価と最適化、および正確性と再現性を確保するための製品受け入れテストなどの高度な機能が搭載されています。統合されたソフトウェアパッケージにより、ユーザーはプラズマ操作を監視および分析し、特定のアプリケーションのカスタムレシピを作成できます。ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、シンプルで直感的な操作と構成が可能です。全体として、PLASMATHERM 790は、要求の厳しいアプリケーションに最適なエッチャー/アッシャーです。これは、優れた制御機能と相まって、汎用性の高い高精度エッチング/アッシングプロセスを提供します。この機械は信頼性が高く、再現性があり、費用対効果が高いため、生産ラインを効率的に稼働させたい企業にとって魅力的な選択肢です。
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