中古 PLASMATHERM 790 #293800249 を販売中

ID: 293800249
ヴィンテージ: 1997
Reactive Ion Etcher (RIE) Type: Single-chamber 1997 vintage.
PLASMATHERM 790高出力エッチャー/アッシャーは、アルミナ(Al2O3)やシリコンカーバイド(SiC)などのセラミック材料の精密高アスペクト比エッチングを提供するために設計された最先端のプラズマエッチング機です。高精度で高い生産率と低トータルコストを必要とする方に最適です。エッチャー/アッシャーは、特許取得済みのリアクティブイオンエッチング(RIE)技術を使用して、さまざまなセラミック材料を正確にエッチングします。790は非常に汎用性の高いエッチング機で、さまざまな機能が付属しています。デュアル周波数RFジェネレータと自動チューニング電源を備えており、材料に10〜20 μ mのパターンを迅速かつ一貫してエッチングすることができます。また、お客様固有のニーズに合わせた柔軟なエンドエフェクタシステムを備えています。これには、標準のデュアルシャッターシステム、4つのPAEカートリッジホルダー、ロータリーステージ、およびその他のさまざまなオプションホルダーが含まれます。さらに、このマシンはエッジ検出および位置制御機能のためのProximity Sensorによってさらに支援されます。先進のProximity Sensorテクノロジーにより、エッジ定義の機能エッチングとミクロンレベルでの正確なパターン認識が可能になります。PLASMATHERM 790は、カバーインターロック、アラーム、酸素監視システムなど、さまざまな高度な安全機能も備えています。このマシンには自己診断機能とメンテナンス機能が搭載されており、リモートで監視することができます。さらに、エッチャー/アッシャーにはいくつかのオプションのリモートセンサーがあり、さまざまな機能を制御し、パフォーマンスと効率を向上させます。全体的に790は、セラミック材料の精密高アスペクト比エッチングをお探しの方に理想的なエッチャー/アッシャーです。便利な機能と安全対策を多数備えており、柔軟なエンドエフェクター用の高度なProximity Sensorテクノロジーと組み合わせることで、小さなジオメトリをエッチングしたい人に最適です。デュアル周波数RFジェネレータ、オートチューニング電源、リモコン機能により、セラミック材料を高精度にエッチングするための強力で費用対効果の高いソリューションです。
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