中古 PLASMATHERM 790 #293775968 を販売中

PLASMATHERM 790は、先進的な半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイス製造プロセス向けに設計された最先端のプラズマエッチャー/アッシャー装置です。この汎用性の高いシステムは、世界の半導体産業のプラズマ処理装置のリーディングプロバイダーであるPlasma-Thermによって製造されています。790は、革新的なプラズマエッチングとアッシング技術を使用して、高精度で効率的な半導体材料を正確にパターン化し、洗浄します。堅牢なデザインと最先端の機能を備えたこのユニットは、フォトレジスト除去、誘電エッチング、金属エッチングなど、幅広い用途に最適です。PLASMATHERM 790の重要な特徴の1つは、プラズマ処理の制御環境を提供する高度な真空チャンバー設計です。この機械は、高品質のステンレス製のチャンバーを備えており、望ましいプロセス条件を維持し、基板表面全体の均一性を高めるための優れた真空シール機能を備えています。790は、プロセスガスと流量の正確な制御を可能にする複数のガス入口ポートを内蔵しています。これにより、特定の要件に応じてプラズマ化学を調整することができ、異なる材料やデバイス構造に対する最適化されたエッチングおよびアッシングプロセスが容易になります。さらに、このツールには、プラズマの発生と分布を正確に制御する高度なRF電源とインピーダンスマッチングネットワークが装備されています。これにより、プロセス・ガスの効率的なイオン化と基板全体の均一なプラズマ分布が保証され、一貫した再現性のあるプロセス結果が得られます。PLASMATHERM 790は、単一周波プラズマとデュアル周波数プラズマの両方をサポートする汎用性の高い電極構成を備えています。この柔軟性により、高密度プラズマエッチングまたは低ダメージアッシングのいずれであっても、プロセス要件に基づいて適切なプラズマソース構成を選択できます。さらに、エッチングまたはアッシングプロセス全体で安定した連続的なプラズマ動作を保証する高度なプラズマソース設計を備えています。半導体製造において高いプロセス再現性と歩留まりを実現するために不可欠な機能です。790はまた、リアルタイムのプロセス最適化を可能にする最先端のプロセス監視および制御機能を備えています。このモデルには、プロセス完了の正確な決定を可能にする高度なエンドポイント検出技術が含まれています。さらに、PLASMATHERM 790は、ユーザーフレンドリーなインターフェイスと直感的なソフトウェア制御を提供し、オペレータがプロセスを設定し、機器のパフォーマンスを監視することが容易になります。また、リモートモニタリングと診断をサポートし、効率的なメンテナンスとトラブルシューティングを可能にし、ダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最大化します。全体として、790は非常に高度なプラズマエッチャー/アッシャーユニットであり、半導体およびマイクロエレクトロニクス製造プロセスにおいて卓越した性能、汎用性、および信頼性を提供します。最先端の機能と機能を備えたこのマシンは、半導体業界の最先端の研究および生産設備にとって貴重なツールです。