中古 PLASMATHERM 790 #293775580 を販売中

PLASMATHERM 790は、研究または生産環境における半導体およびその他の材料の精密エッチングおよび洗浄用に設計された最先端のプラズマエッチャー/アッシャー装置です。この高性能ツールには、優れたプロセス制御、均一性、再現性を提供する高度な技術が搭載されており、半導体、MEMS、ナノテクノロジー、その他の業界の幅広い用途に最適です。790は高密度プラズマ源を備えた洗練されたプラズマ処理チャンバーを備えており、通常は誘導結合プラズマ（ICP）技術を利用して、基板表面を効果的にエッチングして洗浄する非常に反応性の高いプラズマを生成します。このシステムは、最大200mmまでのさまざまなウエハサイズに対応でき、さまざまなプロセス要件に対応するカスタマイズ可能な構成を提供します。PLASMATHERM 790の重要なハイライトの1つは、エッチング機能とアッシング機能を含む高度なプロセス機能です。エッチングは、ウェーハ表面から材料層を選択的に除去し、デバイス製造のためのパターン、トレンチ、またはビアを作成するために使用される半導体製造において重要なプロセスです。790はエッチング機能のエッチング速度、選択性、プロファイルを正確に制御できるため、サブミクロン分解能で高精度なパターン作成を実現できます。エッチングに加えて、エッチング後にウェーハ表面から有機汚染物質やフォトレジスト残留物などの不要物質を除去するアッシャーとしても機能します。ユニット内のアッシャーモジュールは、プラズマと反応ガスの組み合わせを利用して基板を効率的に洗浄し、基板層を損傷することなく、最終デバイスの品質と信頼性を確保します。790は、プロセスのパフォーマンスを最適化し、一貫した結果を保証するために、さまざまな高度な制御機能を備えています。この機械には、高度に構成可能なガス供給ツール、正確なRF電源制御、温度制御、および圧力レギュレーションが含まれており、アプリケーションの特定の要件に応じてプラズマプロセスパラメータを調整できます。さらに、アセットは高度なエンドポイント検出機能と統合されており、エッチングまたはアッシュ処理の進行状況をリアルタイムで正確に監視し、正確なプロセス終了とエンドポイント制御を可能にします。さらに、PLASMATHERM 790は、プロセスパラメータの簡単な操作と監視のための高度なソフトウェア制御とユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供しています。このモデルを使用すると、ユーザーはカスタムプロセスレシピを作成および保存し、プロセスの自動最適化を実行し、分析およびドキュメント用の詳細なプロセスレポートを生成できます。高度なデータロギングおよび分析ツールにより、ユーザーはプロセスパラメータを追跡し、機器のパフォーマンスを監視し、トラブルシューティングと最適化のための潜在的な問題を特定できます。全体として、790は最新のプラズマエッチャー/アッシャーシステムであり、最新の半導体および材料加工アプリケーションの厳しい要件を満たすように設計されています。高度な技術、優れたプロセス制御、汎用性を備えたPLASMATHERM 790は、研究、開発、生産環境における高精度エッチングおよびクリーニングプロセス向けの信頼性の高いソリューションを提供します。