中古 PLASMATHERM 790 #293729354 を販売中
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ID: 293729354
ウェーハサイズ: 2"-6"
ヴィンテージ: 1993
Reactive Ion Etcher (RIE), 2"-6"
Single chamber
Material used: Gas and Silicon
MFC: N2/SiH4/HE, HE, NH3
Pump
HX75 Chiller
RF
No loadlock
Throttle valve
Ion gauge controller: Manometer
Gas panel
Fluid input panel
Temperature control system
Operating system
1993 vintage.
PLASMATHERM 790は、材料の正確で反復可能な処理を目的としたエッチャー/アッシャーです。自動化されたプロセス制御プラットフォームを備えており、使いやすく、正確で反復可能なプロセスを提供します。このシステムは、ポリマー、金属、金属ポリマー複合材料などの様々な種類のサンプルを処理するように設計されています。それは精密な、反復可能なエッチングおよびashing解決を提供するために、800°Cまで非常に高温に達することができます。このツールには、強力で低メンテナンスの真空ポンプが含まれています。ポンプは正確なプロセスを保障し、頻繁な維持のための必要性を除去する部屋の一定した、正確な圧力を保障します。このプラットフォームの革新は、ユーザーに時間の経過とともに正確な結果を提供し、頻繁なスロットリングまたは圧力の調整の必要性を減らすことです。790のボディは堅牢で信頼性の高い設計で、継続的なルーチン操作のために設計されています。それはユーザーおよび装置への傷害か損傷を防ぐ信頼できる安全システムが装備されています。エッチングとアッシングプロセス全体を正確に電力制御するために、複数の高周波電源と複数の高周波電源を交互に使用しています。また、自動化されたプロセス制御プラットフォームで幅広い制御を提供し、高度な機能に簡単にアクセスできます。このプラットフォームを通じて、ユーザーはマニュアルまたは自動エッチングとアッシングプロセスを選択できます。さまざまなプロセスプロファイルは、エッチングとアッシングプロセスのすべての側面を制御するPCソフトウェアからプログラムすることができます。さらに、ユーザーは部屋の温度そして圧力、ガスの流れおよび材料に渡すべきエネルギーの厳密な量を管理できます。全体として、PLASMATHERM 790は、精度、再現性、信頼性の高い操作をユーザーに提供します。高度な材料加工に最適なツールであり、研究および産業用途の両方に適しています。また、ユーザーが最小限の労力でプロセスを簡単にプログラムし、エッチングとアッシングプロセスを完全に制御できる自動プロセス制御プラットフォームも提供しています。
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