中古 PLASMA SYSTEMS DES 212 #9123081 を販売中

PLASMA SYSTEMS DES 212は、幅広い産業およびアプリケーションでの実験室および生産用に設計された高度なエッチャーおよびアッシャーです。エッチャーとアッシャーは、さまざまな過酷な産業環境での信頼性の高い操作のために設計された堅牢な構造を備えています。エッチング、アッシング、プラズマ洗浄、成膜など多種多様なプロセスに適しています。PLASMA SYSTEMS DES-212は、任意のプロセスにカスタムフィッティングするためのモジュール式で拡張可能なワークステーションレイアウトで設計されています。プラズマジェネレータとチャンバは、2つの温度制御コンポーネントを備えたメインコンソールに接続されています。温度は異なったプロセス適用のために調節することができます。SF6、 CO2、 O2、 N2、 Arなど、さまざまなプロセスガスを使用できます。装置は、RIEまたはBAT（バッチプロセス）モードで動作できます。DES 212は多種多様なプロセス変数をサポートし、特定のプロセス要件に合わせてプログラムすることができます。このシステムには、プロセス制御とプロセス最適化を改善するためのデジタル読み出しとコンピュータ制御のデータ収集が含まれています。組み込みソフトウェアは、より正確なプロセス制御とさらなる最適化のための自動制御とデータ収集を可能にします。このユニットは、電圧および電流バイアス、プラズマおよびエッチングガスフロー、プロセス温度、圧力、湿度、エッチングおよびクリーニングサイクル時間など、幅広いパラメータ設定を備えた精密で繰り返し可能なプロセス制御用に設計されています。ワーキングチャンバーの温度均一性は、特許取得済みのリフロー管理機で維持されます。このツールには、安全資産が組み込まれており、人員がリスクにさらされるのを防ぐためのインターロックが装備されています。DES-212は、ハイスループットバッチ処理に最適であり、単一および多次元処理容器を含むさまざまなプロセスチャンバと互換性があります。高度なコンピュータ制御データ取得によるプロセス制御の強化、リフロー管理によるプロセスの均一性の向上、直感的なユーザーインターフェイス制御による使いやすさ、組み込みインターロックモデルによる安全性の向上など、従来の技術で向上した幅広い機能を提供します。