中古 PLASMA ETCH PE-200 #9103920 を販売中

PLASMA ETCH PE-200 PLASMA ETCH Equipmentは、平面化誘電層のエッチング/アッシング用に設計された高度なプラズマエッチャー/アッシャーです。このシステムは、エレクトロニクス業界における低量から中量のプラズマ関連プロセスで使用されます。このユニットは、蒸気相エッチング、蒸気相アッシング、表面洗浄、フラットパネルエッチングなどの用途において、精度、均一性、再現性、精度、および清潔性を提供することができます。多段、低圧、低消費電力のエッチングプロセスを利用することPE-200、幅広い材料にわたって非常に均一なエッチング速度と正確なエッチング深度を達成することができます。PLASMA ETCH PE-200は、最大200mmウェーハまたは大口径に対応可能な広域チャンバーを提供します。プロセス結果の均一性と再現性を確保するために、高性能の電極制御が使用されます。さらに、PE-200は、圧力、温度、および処理中の電力監視などの機能を備えた正確な制御を提供します。また、ウエハスタックにエチャントガスを効率的に供給するための高度なガス分散ツールも搭載しています。この資産のユーザーフレンドリーな設計は、さまざまなプロセスパラメータの簡単なプログラミングと監視を可能にする大型カラーLCDタッチスクリーンディスプレイを備えた操作を簡素化します。コントロールモデルには、頻繁に使用されるプロセスレシピのデータベースと、データの保存、編集、転送、リコール、回復を行う機能が含まれています。PLASMA ETCH PE-200は、排気粒子レベルを低減し、材料の蓄積を防止するための排気フィルター装置と、より良いガスの均一性と温度制御のためのインテリジェントガス冷却システムを備えています。PE-200は、大きな部品を含む最も困難なエッチング/アッシング用途に優れた性能と制御を提供します。このユニットは、精密なエッチング/アッシングプロセスを必要とする環境、およびコスト削減と効率の向上に最適です。