中古 PLASMA ETCH PE-200 #293778285 を販売中

PLASMA ETCH PE-200は、幅広い材料に非の打ちどころのないエッチングおよびアッシング用途を提供できる卓上電源です。この精密な装置は、電気的および不活性ガス放電の組み合わせを利用して、熱露出を最小限に抑え、壊れやすい基板の熱衝撃を伴わない材料を一貫して除去します。PE-200の中心には、エッチングモジュール、ポンプモジュール、ガス供給モジュールの3つの独立したインターロックシステムがあります。エッチモジュールは、真空リリースバルブ、マグネトロン源、各種動作構成に合わせたカスタムインダクタ、および均一なプラズマ生成のための低電圧プラズマチャンバーで構成されています。カスタムインダクタは、マグネトロンから基板への効率的なエネルギー伝達を可能にし、一貫したエッチング速度を確保します。ポンプモジュールには、ガス、エアロック、および異なる真空ゲージ用の保持タンクを備えたターボ分子ポンプがあります。これは、ガスの交換または追加時にシステムの完全性を維持するのに役立ちます。さらに、ガス供給モジュールは、シャットオフ弁、コレクターおよびキャリアガス供給、および中性圧力レギュレータを備えています。PLASMA ETCH PE-200のその他の機能には、ハイエッチレート機能、高速ポンプダウンレート、および室温に近い動作があります。その結果、このシステムは、精度と再現性を備えた低コストのウェーハエッチングを提供します。そのため、シリコン、窒化ケイ素、タングステン、アルミニウム、その他の金属などのさまざまな材料で、ドライエッチング、アッシング、化学蒸着（CVD）アプリケーションに使用できます。さらに、PE-200には、緊急停止回路、自動圧力制御システム、および自己性能試験を備えた統合安全設計があります。これにより、事故、故障、ダウンタイムを最小限に抑えることができます。また、プロセス中に保存したムービーを再生して操作履歴を確認できるムービー再生機能も搭載しています。PLASMA ETCH PE-200はSEMI S2規格にも準拠しており、ユーザーに安全で準拠した動作環境を提供します。全体的に、PE-200は優れた再現性と信頼性を備えた精密なエッチングおよびアッシングアプリケーションを提供する高度な卓上ソースです。精密エッチングとアッシングの強力な組み合わせにより、迅速かつ安全な操作が可能になり、このツールはあらゆるR&Dラボや製造施設に貴重な付加価値をもたらします。