中古 PLASMA ETCH BT-1 #9100075 を販売中

PLASMA ETCH BT-1は、高エネルギーのプラズマを使用して有機および無機材料をエッチングおよび灰化するエッチャーおよびアッシャーです。その動作は、基板に均一で制御可能なプラズマを提供する高周波誘導設計に基づいています。誘電体エッチング、金属化、微細加工などのプロセスに最適です。PLASMA ETCH BT1は、最大13。56MHzの高周波プラズマを生成するアンテナアレイを使用して、Si、 SiO2、 Si3N4、金属、ポリイミドなどのさまざまな材料をエッチングおよび灰にします。これにより、ダイレクトデバイス製造のための二酸化ケイ素などの薄層材料の精密かつ再現性の高いエッチングが可能になります。BT-1のエッチングチャンバーは、0-60°C（オプションの高温チャンバー付き5-90°C）の快適な温度範囲を備えています。ターボポンプおよびろ過システムの助けによって、部屋は外的な避難のための必要性なしで0。1-500 mTorrの広い作動圧力範囲を達成できます。これにより、エッチングとストリップ、メタルリフトオフ、ディープトレンチエッチングなど、幅広いエッチング処理が可能です。BT1は、組み込みプロセスコントローラにより、カスタムプラズマエッチングとアッシングのための幅広いプロセスパラメータを保証し、使いやすいように設計されています。組み込みプロセスコントローラは、プロセスパラメータ、特にエッチング速度と均一性に基づいて理想的なエッチングパラメータを識別することにより、再現性を最適化するのに役立ちます。そのマイクロプロセッサ制御、直接結合RFドライブはまた、処理サイクル中にRF電力の高速ランプアップとランプダウンを達成するのに役立ちます。これにより、エッチングのスループットが向上し、サンプル充電の影響が軽減されます。PLASMA ETCH BT-1には、無線周波数（RF）バイアスヘッドなどの幅広いオプションアクセサリーも付属しています。PLASMA ETCH BT1は、大量かつ高精度の製造プロセス向けに設計されています。マイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）の製造やその他の複雑なマイクロデバイスの製造に使用されています。幅広いプロセスパラメータと堅牢な機能を備えた使いやすいエッチャーとアッシャーをお探しの方に最適です。