中古 OXFORD PlasmaPro 800 Plus #9412285 を販売中

OXFORD PlasmaPro 800 Plusは、半導体基板の高速エッチング用に特別に設計されたエッチャー/アッシャーです。高速エッチングツールには、高度なマイクロ波およびRFプラズマ技術が搭載されており、より高い歩留まりと精度で高速エッチングを可能にします。PlasmaPro 800 Plusは、4つの水晶ハロゲンリフレクターを備えた大面積ワークテーブルを備えており、表面全体に高い電力供給を可能にします。リフレクターは、微小放電の発生を防ぎ、均一で精密なエッチング工程を確保するために、特殊な誘電材料でコーティングされています。OXFORD PlasmaPro 800 Plusには、13。56 MHzのマイクロ波周波数範囲で動作する4つのRFソースが装備されています。これらの4つのRFソースには、エッチングまたはアッシングのいずれかに設定できる単一のRF出力があります。このツールはまた、設定可能な電源供給と制御のための追加リソースを提供し、異なるエッチングプロセスに対してより高い精度と柔軟性を実現します。プラズマプロ800プラスはまた、基板の位置を正確に調整するように設計された高精度の精密ステージングメカニズムを備えています。精密な動きは、二軸調整と高解像度エンコーダを備えたマイクロモーターサーボによって調整されます。これにより、エッチングプロセスを実行しながら基板のレベルが維持されます。OXFORD PlasmaPro 800 Plusのもう一つの特徴は、高度なプロセス監視および制御システムです。リアルタイムプラズマ強度モニタ、プロセスタイムモニタ、基板温度モニタなど、さまざまなモニタを備えており、エッチング処理に関するリアルタイムのフィードバックを提供します。また、ユーザーが特定のプロセス条件のエッチングパラメータを正確に調整できるプロセス制御システムも備えています。PlasmaPro 800 Plusには包括的なプロセスデータベースも含まれており、ユーザーは処理データを簡単に保存および取得できます。データは不揮発性メモリから素早く簡単に取得でき、特定のプロセス条件に応じて整理されます。OXFORD PlasmaPro 800 Plusは、半導体基板の高速・高精度エッチングに欠かせないツールです。高度なRFおよびマイクロ波プラズマ技術、洗練されたステージング機構、包括的なプロセスデータベースを備えています。また、さまざまなモニターとプロセス制御システムを備えており、ユーザーはリアルタイムでエッチング処理を調整および監視できます。これにより、ユーザーはより大きな制御、正確さ、柔軟性を得ることができます。