中古 OXFORD PlasmaPro 80 #293812430 を販売中

OXFORD PlasmaPro 80は、ハイエンドエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクス部品の製造に使用される最先端のエッチャーおよびアッシャーです。PlasmaPro 80は、エッチングおよびアッシングプロセスの正確な制御を提供するように特別に設計されており、生産プロセスの制御と詳細を強化できます。高精度なエッチングとアッシングが可能で、ハイエンドのエレクトロニクス製造に適しています。OXFORD PlasmaPro 80は、高精度で効率的なエッチングとアッシングの結果を促進するために設計されたさまざまな機能を備えています。PECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition）チャンバーを備えており、可変温度制御を提供し、金属や誘電体のエッチングとアッシングを改善します。このチャンバーには高速パルスプラズマシステムも装備されており、エッチングとアッシングのプロセスをより正確に制御することができます。PlasmaPro 80には、デバイス上の均一な材料層の自動蒸着を可能にするオートデポジションチャンバーも含まれています。高出力マイクロ波発電機を利用してプラズマを生成し、蒸着プロセスを強化します。ユーザーは、最適化されたエッチングとアッシングのパフォーマンスを可能にするパラメータの範囲から選択することができます。OXFORD PlasmaPro 80はまた、優れたプロセス再現性を提供し、ユーザーは生産の一貫性を確保することができます。これと同様に、非常に細かいエッチングとアッシングを提供することができ、製造工程でより複雑な部品を可能にします。作り付けのユーザーインターフェイスはプロセスの容易な制御そして監視を可能にします。PlasmaPro 80には動的周波数範囲があり、複数のプロセスを同時に実行しながら、それぞれの速度制御を提供します。この機能により、効率が向上し、製品生産の納期が短縮されます。OXFORD PlasmaPro 80は、金属や誘電体の精密エッチングとアッシングに最適です。その動的周波数範囲、ユーザーフレンドリーなインターフェイス、自動蒸着システムにより、さまざまなアプリケーションに最適です。これまで以上に精度とディテールの高い製品を生産することができます。