中古 OXFORD PlasmaPro 100 Cobra #293794608 を販売中

OXFORDプラズマプロ100コブラは、先進的な半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイス製造プロセス向けに設計された最先端のプラズマエッチャー/アッシャー装置です。この汎用性の高いツールは、革新的な技術を組み込み、研究開発における幅広い用途に高性能プラズマ処理能力を提供します。PlasmaPro 100コブラの中核には、ICP （Inductively Coupled Plasma）と下流のプラズマ源の両方を備えた独自のデュアルプラズマソース構成があります。このデュアルソース設計により、プロセスの柔軟性と制御性が向上し、ユーザーは特定のプロセス要件に合わせてプラズマ特性を調整できます。ICPソースは効率的なイオン化機能を備えた高密度プラズマを生成し、下流のプラズマはプロセスの均一性と安定性を高めます。コンパクトな設置面積とユーザーフレンドリーなインターフェースを備えているため、学術的および産業的な研究環境に適しています。直感的なソフトウェアインターフェイスにより、簡単なレシピ開発とプロセス最適化が可能になり、ユーザーは変化する研究ニーズにすばやく適応できます。さらに、高度なオートメーション機能により、運用を合理化し、生産性を向上させ、ダウンタイムを最小限に抑え、スループットを最大化します。OXFORDプラズマプロ100コブラは、エッチング、アッシング、表面改質、クリーニングなど、幅広いプロセス機能を提供します。この機械にはさまざまなガス供給オプションが装備されており、プロセスガスと流量を正確に制御できます。これにより、ユーザーは等方性および異方性エッチング、パッシベーション、降順、レジストストリッピングなど、さまざまなプラズマプロセスを実行できます。このツールの高度なRF電源機能により、プラズマ密度とエネルギーを正確に制御でき、最適な結果を得るためのプロセスパラメータの微調整が容易になります。さらに、このアセットにはさまざまなRFマッチングネットワークとチューニングオプションがあり、さまざまな基板材料とプロセス要件に対応しています。PlasmaPro 100 Cobraには高度なエンドポイント検出機能が搭載されており、プロセスの進捗状況をリアルタイムで監視し、エッチングの深さと選択性を正確に制御できます。この機能により、プロセスの再現性と歩留まりが向上し、一貫した信頼性の高いデバイス性能が得られます。モデルの安全性と信頼性の観点から、OXFORD PlasmaPro 100コブラは、長期的な性能と動作を確保するために、堅牢な材料とコンポーネントで設計されています。この装置には、高度な安全インターロックと監視システムが組み込まれており、プロセスの逸脱を防ぎ、ユーザーの保護を確保しています。全体として、PlasmaPro 100 Cobraは、半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイス製造におけるプラズマ処理の最先端ソリューションです。革新的なデュアルプラズマソース構成、高度なオートメーション機能、多彩なプロセスオプションを備えたこのシステムは、幅広い研究開発アプリケーションに比類のない柔軟性、制御、パフォーマンスを提供します。