中古 OXFORD Plasmalab uEtch #293604265 を販売中

OXFORD Plasmalab uEtchは、ナノエレクトロニクスおよびプラズモン構造の製造用に設計された先進的なエッチング装置です。汎用性が高く、研究、開発、産業用途に適しています。このエッチャーはマルチヘッド設計に基づいており、パターン形成と歩留まりを最適化するための幅広いパラメータの実験を可能にします。このシステムは、指向性と非指向性の両方のエッチングをサポートし、複雑なエッチングパターンだけでなく、バルクオーバーエッチングを可能にします。単位の中心に正および否定的なイオン密度を提供することができる誘導的に結合された無線周波数（RF）の発電機があります。これにより、エッチング処理を正確に制御でき、ユーザーはエッチング速度を調整して必要なプロファイルを選択することができます。一貫して安定したプロセスを確保するために、発電機にはフィードバックとインターロック監視が装備されています。Plasmalab uEtchマシンにはユーザーフレンドリーなタッチスクリーンインターフェイスが付属しており、ユーザーはエッチング速度、加速電圧、電極分離などのさまざまなパラメータを制御できます。さらに、このツールは、開閉ループなどのさまざまな制御モードをサポートしているため、エッチングプロセスを正確に監視して最適な結果を得ることができます。アセットには絶縁プラズマチャンバーもあり、エッチング処理によって生成された荷電粒子が他のモデルパラメータと干渉しないようにします。追加の安全対策として、機器にはユーザーの制御を超えた状況のための緊急停止ボタンが装備されています。システムは大面積の生産のために設計され、他の装置との容易な統合を可能にします。高い信頼性があり、高いスループットと費用対効果の高い生産性を提供します。OXFORD Plasmalab uEtchユニットを使用する主な利点の1つは、その高度な安全機能です。エッチャーには、消火器、プラズマ閉じ込めスクリーン、汚染を防ぐ一連のフィルターが装備されています。これにより、機械が安全に使用でき、潜在的なリスクを最小限に抑えることができます。プラズマラブuEtchは、強力で汎用性が高く信頼性の高いエッチングツールであり、高品質のナノエレクトロニクスおよびプラズモン構造の製造に理想的です。その高いスループットと費用対効果の高い性質により、研究者、開発者、企業にとっても実行可能な選択肢となります。