中古 OXFORD Plasmalab 800 #293830575 を販売中
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ID: 293830575
ヴィンテージ: 2015
PECVD System
Process chamber
Gas/control enclosure
Pumping package
2015 vintage.
OXFORD Plasmalab 800は、高度なオンボードエッチャーとアッシャーです。これには、オンボードの高分解能イオンビーム源と、反応ガス供給装置が内蔵されています。エッチングおよびアッシングプロセスに精度と精度を提供するように設計されており、幅広い用途に最適です。エッチャー/アッシャーは、5µm/minの高い沈着エッチング率を持ち、選択性、再現性、エッジ定義を向上させながら、最大1200Kの温度に達することができます。Plasmalab 800は、FF、 SF、 CF4、 CHF3、 CF2Cl、 CF 2Br、 C 2F 2Cl 2およびC 2F 2Brを含む幅広いプロセスガスを備えています。また、様々な基質化学に利用可能な様々な圧力と温度サイクルを持っています。OXFORD Plasmalab 800には、プロセスパラメータ用のライブモニタリングシステムも装備されています。これには、ガスの流れ、蒸着率、蒸着率、ガス濃度、圧力、温度が含まれます。リモートモニタリングも可能で、ローカルネットワーク接続で使用したり、インターネット経由で直接アクセスすることもできます。ユニットは自己完結型で、操作とメンテナンスが簡単です。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)と、運用設定とトラブルシューティングのための包括的なマニュアルを備えています。厚さ3mmまでの4〜8インチ基板に対応可能で、エッチング後の洗浄も不要です。Plasmalab 800は、精密エッチングとアッシングのための最先端のツールです。オンボードの高分解能イオンビームおよびガス供給機は、多種多様な微細加工アプリケーションに最適です。これは、優れた再現性とエッジ定義を備えたプロセスレイヤーを迅速かつ正確に生成することができます。内蔵のリモートモニタリングツールにより、診断とメンテナンスが簡単に行えます。これらの機能を組み合わせることで、OXFORD Plasmalab 800は強力で貴重なツールとなります。
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