中古 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9409921 を販売中

ID: 9409921
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2009
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 8" Diameter electrode: 460 mm, 4"-12" Chamber uniformity: <2% Silicon nitride and silicon dioxide layers Top electrode, 18.75" With shower head gas Electronics and vacuum component Mass flow controller Wall mounted gas pod (6) MFC Gas controllers Gases: He, N2, N2O, NH3, 5% SIH4 / 95% N2, 80% CF4- 20% O2 PC Controller Advanced graphics and process recipe pages Vacuum pump and blower package Power supply: 208 V, 18 A, 3Phase 2009 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plusは、さまざまな商業および実験室の環境で正確かつ効率的なパフォーマンスを提供するように設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。最新の技術と高度なプロセスフローから構築され、金属やその他の材料の層を正確な厚さで迅速かつ正確に構築します。機械は500mbarで55リットルまでのアルゴンをポンプでくむことができる注意深く設計された部屋およびポンプアセンブリに基づいています。これは高精度のソフトウェアパッケージによって制御され、ユーザーはエッチング/アッシング処理を正確に監視および制御することができます。このチャンバーには最新の電子光学系が搭載されており、エッチング/アッシング処理をより効率的かつ正確に行うのに役立ちます。また、高品質の材料で作られ、最大1000Wの発電蒸着が可能な特殊誘導結合プラズマ(ICP)源も設置されています。これらの光源と光学系の改良により、Plasmalab 80 Plusはわずか数分で優れたエッチング/アッシング性能を発揮します。さらに、ソースは、以前よりも50%速いエッチング/アッシングを行うことができます。このエッチャー/アッシャーの他のコンポーネントには、高性能ターボ分子真空ポンプと高速マスフローコントローラ(MFC)が含まれています。真空ポンプは、プロセス中に1。3 x 10-5 Torrの最高圧力に達することができ、MFCは高速温度制御を提供します。別のアセンブリを使用して、エッチング/アッシング処理を最適化し、高出力の電源と高度なプロセス制御を提供します。OXFORD Plasmalab 80 Plusの高精度は、競合他社の中でも際立っています。エッチング/アッシングパラメータを1000分の1ミリメートルまで正確に調整できるため、ユーザーは非常に正確な結果を得ることができます。機械の信頼できる性能はまた一貫して一貫した、正確な結果を作り出すので最低限の無駄および費用を保障します。全体として、Plasmalab 80 Plusは、プロジェクトに正確で効率的なエッチング/アッシングを必要とする人にとって理想的な選択肢です。高度な設計、信頼性の高い性能、および高精度のおかげで、商業および実験室の環境に最適です。その値札は急に見えるかもしれませんが、マシンは優れた投資収益率を提供します。
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