中古 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9398272 を販売中

OXFORD Plasmalab 80 Plus
ID: 9398272
Reactive Ion Etcher (RIE) / PECVD System.
OXFORD Plasmalab 80 Plusは、研究および教育用途に適した高性能統合エッチャー/アッシャー機器です。シリコンやポリマーなど各種材料の精密な試料加工が可能です。完全なシステムには、ベースユニット、ダウンルックオプティクス、アップルックオプティクス、ガスハンドリングユニットが含まれています。ベースユニットは、電気配線と制御機械のための規定があるフレーム内に埋め込まれた精密設計の気密チャンバーです。この部屋はステンレス鋼、陽極酸化されたアルミニウムおよび補強されたアクリル材料から組み立てられ、特許を取られた密封されたふたの設計の温度のヘリウムのbackfillを制御します。ベースユニットによって提供されるプリミックス生産プロセスは、安定した性能を保証し、均質な結果をもたらします。下向きの光学系は基板表面に均一な照明を提供し、デジタルライトコラムは高解像度のイメージングツールを提供します。下向きの光学系は、22。6 mm (1インチ)まで拡張できる視野を持っています。可変動作距離(3。3-11。3 mm)があります。光学アセットは、サンプル表面の照明を最適化し、可能な限り最高の性能を確保するように設計されています。見栄えの良い光学系は0。1〜400°の範囲をカバーし、エッチングやパターニングの監視に使用できます。最大1400X倍の高解像度イメージングモデルを提供し、最先端のイメージングおよびパターン認識装置を備えています。Plasmalab 80 Plusのガス処理システムは、メインコントロールユニットと5つの独立したマスフローコントローラとプロセスバルブで構成されています。ガス供給ユニットは、プロセス制御ソフトウェアのフルレンジで監視および制御することができるバッチおよび連続プロセスの両方のために設計されています。さらに、コントローラは基板や材料の監視、蒸着計測、パターニングが可能です。OXFORD Plasmalab 80 Plusは、さまざまな材料の正確な加工とパターン作成のための高度なツールであり、教育および研究目的に最適です。機械に組み込まれた卓越した性能とエンジニアリングにより、信頼性と正確なエッチングとアッシングプロセスに最適です。
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