中古 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293697553 を販売中
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ID: 293697553
ウェーハサイズ: 4"-6"
ヴィンテージ: 1995
PECVD System, 4"-6"
Deposition: SiO2, SiH4 at 300°C
No burner gas abatement
EDWARDS E2M80 Vacuum pump
Mass Flow Controller (MFC)
RF Generator
PC Controller
1995 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plusは、半導体製造および研究アプリケーションにおける精密エッチングおよびアッシングプロセス用に設計されたプラズマ技術を備えた高度なエッチャー/アッシャー装置です。OXFORD Instrumentsによって開発されたPlasmalab 80 Plusは、さまざまな業界のハイテク機器のリーディングプロバイダーであり、優れた性能、信頼性、幅広い材料および基板の取り扱いにおいて汎用性で有名です。OXFORD Plasmalab 80 Plusシステムの中核には、エッチングやアッシングに最適な反応性の高いプラズマ環境を生成する高度なプラズマソース技術があります。このユニットは、RF(無線周波数)とマイクロ波エネルギーの組み合わせを利用して、高精度で均一な基板表面から材料を効率的に分解して除去する制御プラズマ放電を作成します。プラズマソースには、安定したプラズマ条件を維持し、プロセス性能を最適化するための高度なインピーダンスマッチングおよびチューニング機能が装備されています。Plasmalab 80 Plusは、ユーザーが特定のプロセス要件に応じてプラズマエネルギー密度と分布を調整することができる可変電源付きの大きなプロセスチャンバーを備えています。この機械は、酸素、フッ素、塩素などの反応ガス、アルゴンやヘリウムなどの不活性ガスを含む幅広いガス注入オプションを提供しており、エッチング速度、選択性、プロファイル機能を正確に制御して、多様なエッチングおよびアッシング処理を行うことができます。OXFORD Plasmalab 80 Plusは、基板の取り扱いとプロセス制御の観点から、ウェーハ、フォトマスク、フラットパネルディスプレイなど、さまざまなサイズと種類の基板に対応できる汎用性の高いサンプルステージを備えています。このツールは、直感的なソフトウェアインターフェイスを使用して自動化された操作用に設計されており、ユーザーはリアルタイムでプロセスパラメータをプログラムおよび監視し、複数の処理実行にわたって再現性と一貫した結果を保証します。安全性と信頼性は、インターロックメカニズム、ガス流量モニタリング、真空圧力センサなどの組み込み機能を備えたPlasmalab 80 Plusアセットの設計において重要な考慮事項です。また、高度な診断ツールとリアルタイムモニタリング機能を搭載し、プロセス条件の異常や逸脱を検出して対応し、ダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最適化します。OXFORD Plasmalab 80 Plusは、半導体製造および研究用途におけるプラズマ加工技術の頂点を象徴する最先端のエッチャー/アッシャー装置です。プラズマソース技術、柔軟なプロセス制御機能、堅牢な設計により、プラズマラボ80 Plusは、エッチングおよびアッシングプロセスにおいて比類のない性能と汎用性を提供し、デバイス製造において最高の精度と品質を達成するために研究者やメーカーにとって不可欠なツールとなっています。
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