中古 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293665218 を販売中
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ID: 293665218
Reactive Ion Etcher (RIE) / Inductive Coupled Plasma (ICP) Etcher
Cl2
SF6
SiCl3
CHF3
O2/Ar
Chiller.
OXFORD Plasmalab 80 Plusは、さまざまな基板や材料のエッチングまたはアッシングのための信頼性の高い再現性と堅牢なソリューションを提供するエッチング/アッシング機器です。Plasmalab 80 Plusは、反応性イオンエッチング（RIE）、誘導結合プラズマ（ICP）、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）エッチングなど、さまざまな精密エッチングプロセスを採用しています。このプロセスは、最適なエッチング結果を保証するために、さまざまな方法でプログラムすることができます。OXFORD Plasmalab 80 Plusは真空チャンバー内で様々なプロセスを実行するように設計されています。周囲温度から250°Cまで、幅広い温度でエッチングとアッシングが可能です。0〜1000ワットの高精度な電源を使用することで、DCパワーアプリケーションやさまざまな波形を使用して、さまざまな化学物質を含むエッチプロセスの配列をプログラムできます。Plasmalab 80 Plusは、ウェーハを簡単に搬送するための自動サンプル搬送ユニットとサンプルステージを備えています。また、ソフトウェアを備えており、ユーザーはエッチング処理を制御し、エッチングサイクル全体で均一性を維持することができます。また、有害物質や化学物質には特別な規定が設けられており、安全な環境を提供しています。マシンは、ユーザーの完全な保護のための安全機能の数が付属しています。これには、複数のインターロック、圧力監視、酸素および水センサー、および緊急停止が含まれています。さらに、このツールは、プロセス全体でチャンバーと部品への汚染を最小限に抑えるように設計されています。OXFORD Plasmalab 80 Plusは、エッチングまたはアッシング操作の高精度な構成を必要とする研究アプリケーションやその他のアプリケーションに最適なソリューションです。その最先端の技術は、再現性と均一性を兼ね備えており、信頼性の高いエッチングとアッシングプロセスをお探しのお客様に最適です。
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