中古 OXFORD Plasmalab 133 Plus #293651566 を販売中

OXFORD Plasmalab 133 Plusは、シリコン、ポリイミド、高分子誘電体、合金など、さまざまな材料で高純度で低損傷のエッチングおよびアッシング処理を行うための高度なプラズマエッチャーまたはアッシャーです。この装置には、化学反応性ラジカル、分子およびディレーションイオン、電子を幅広く生産できる超高純度プラズマ源が搭載されており、あらゆる材料の高精度エッチングまたはアッシングが可能です。その幅広いプロセスガスは、ドープまたはドープされていないポリマーやシリコン材料のエッチングとアッシングで動作を可能にします。このシステムは、ウェーハに印加される高精度で信頼性の高い電力を備えているため、大量の精密ウェーハ処理に最適です。Plasmalab 133 Plusはクイックチェンジオプションで設計されており、数分以内にエッチング、アッシャー、スタンドアロンプラズマクリーナーを切り替えることができます。内蔵の自動圧力制御と高速サイクルタイムにより、処理時間を短縮し、最高レベルの品質を維持します。OXFORD Plasmalab 133 Plusには、Webベースのプロセス監視およびレポート作成ユニットが含まれています。ユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供し、データロギングとプロセスレシピを提供するこのマシンは、エッチングまたはアッシュプロセスの最適化とスピードアップを支援すると同時に、プロセスのトレーサビリティとパフォーマンスデータへのアクセスを提供します。Plasmalab 133 Plusは、自己完結型であり、既存の生産ラインに簡単に統合できるように設計されています。高い再現性と一貫した結果により、半導体加工、回路基板、パッケージング、マイクロ流体デバイスなど幅広い用途に最適です。これにより、エッチングとアッシングプロセスに費用対効果の高いソリューションとなります。さらに、OXFORD Plasmalab 133 Plusには使いやすいコントロールステーションがあり、新しいプロセスに簡単に使用できます。幅広いプロセスガスにアクセスする必要があるユーザーのために、Plasimalb 133 Plusにはオプションの6チャンバーガスキャビネットがあり、プロセスガスを迅速かつ簡単に交換できます。このエッチャー/アッシャーは、半導体やその他のマイクロエレクトロニクス材料のクリーンで低損傷の処理に最適なソリューションです。このツールの高度な設計と統合されたWebベースのパフォーマンス監視資産により、費用対効果が高く信頼性が高いため、ユーザーは最高品質のエッチングと灰の結果を得ることができます。