中古 OXFORD Plasmalab 133-ICP 380 #293797492 を販売中

OXFORD Plasmalab 133-ICP 380は、反応イオンエッチング（RIE）、誘導結合プラズマ（ICP）エッチングおよびアッシングプロセス用に特別に設計されたプラズマエッチング/アッシャー装置です。この汎用性の高いプラズマエッチング/アッシャーシステムは、高度なICPジェネレータとガス供給ユニットで正確なプロセス制御を提供します。半導体、MEMS、オプトエレクトロニクス、データストレージ、LCD、その他多くの業界で使用されるエッチングおよびアッシング技術が可能です。OXFORD PLASMALAB 133 ICP380は、RPC-150 RPC （Remote Plasma Chamber）を標準装備し、エッチングおよびアッシャー用途の正確なプロセス制御を可能にします。それは自動開始および停止、RFのパワー制御および自動ガスの流れの監視機械のようなさまざまなカスタマイズ可能な特徴が装備されています。このRPC-150には17リットルの静電容量結合ネットワークチャンバーが装備されており、高周波RFエネルギーを誘導的に任意のプロセスに結合することにより、ガスの高効率で均一なイオン化を利用しています。これは、超低エッチング/灰レートで一貫した処理結果を保証するのに役立ちます。PLASMALAB 133 ICP 380には、強力なICPガス供給ツールも装備されています。これは、複数のチャネルを備えたガスパネル、統合された電気安全インターロック、および3Dガスフローのシミュレーションなどの高度な機能を提供します。ガス供給資産は、モデルが最適なプロセス条件で動作することを保証し、優れたプロセス性能とプロセス制御を提供します。OXFORD PLASMALAB 133 ICP 380のコントローラは、完全にプログラム可能なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）ベースのマイクロプロセッサです。この高度なコントローラは、すべてのプロセス段階で機器を正確に制御します。コントローラは、チャンバー圧力、基板温度、アシャールレート、エッチャーレート、電力、ガス流量、位相変調RF発生器など、さまざまなシステムパラメータをサポートしています。このユニットは、特定のアプリケーション用に開発されたカスタムプロセスレシピもサポートしています。PLASMALAB 133-ICP 380は、信頼性が高く、堅牢なプラズマエッチング/アッシュプロセスチャンバーマシンです。エッチングやアッシングの用途に関係なく、再現性と高品質の結果を提供することができます。このツールのカスタムプロセスレシピは、半導体、オプトエレクトロニクス、MEMSなどの分野のさまざまなアプリケーションに適しています。Plasmalab 133-ICP 380は、高性能な結果を得るための優れたプロセス再現性と精度を実現するための理想的なエッチングおよびアッシング資産です。