中古 OXFORD Plasmalab 100 #9364613 を販売中

OXFORD Plasmalab 100は、誘導結合プラズマ（ICP）駆動源に基づくエッチャー/アッシャーです。これは、広範囲の材料のエッチング/アッシングを可能にするために、さまざまなガスを注入することができる単一の大きなソース室で構成されています。このチャンバーは、大型ウエハ基板と高精度エッチング/アッシング結果のためのプラズマパラメータの両方で使用するように設計されています。エッチング/アッシング用にイオンと中性種の両方を供給する低圧誘導結合プラズマ源を備えています。セルフバイアスシステムにより、電源、電極分離、RF周波数などのプラズマパラメータを調整できます。Plasmalab 100のチャンバーは、超高エッチングのアスペクト比を実現し、サンプルの歪みを最小限に抑えながら、直径8インチまでのサンプルをエッチング/アッシングすることができます。プロセス圧力、ガスフロー、ウェーハ表面の前方スパッタリングおよび逆転スパッタリングなどのパラメータを制御し、異なる高さのサンプルを処理することができる多種多様なハードウェアおよびソフトウェア機能を備えています。さらに、圧力モニターと低圧ポンプを内蔵しており、チャンバー内部の圧力を非常に低いレベルに低減できます。OXFORD Plasmalab 100は、エッチング/灰プロセスをリアルタイムで監視し、後処理イメージングの必要性を最小限に抑える高解像度イメージングシステムを備えています。自動ポンピングシステムにより、エッチング/アッシュプロセスの繰り返し測定が可能になり、プラズマパラメータを正確に調整して再現性を向上させます。Plasmalab 100には、ソースチャンバーの過圧と爆発のリスクを最小限に抑えるための保護安全インターロックもあります。OXFORD Plasmalab 100には、500から5000ヘルツまでの周波数を生成できる高出力RFジェネレータも含まれています。この機能により、プロセスパラメータのバリエーションと、エッチング/アッシングプロファイルの最適化が、お客様の希望する結果に合うようになります。さらに、一連の統合された安全および安全警報は最適な労働条件を保障するために部屋の中の圧力を監視します。Plasmalab 100には、メンテナンスが必要な場合にユーザーに通知することでメンテナンスコストを削減するための組み込みモニタリングシステムも含まれています。全体として、OXFORD Plasmalab 100は、高精度のエッチング/アッシング結果を達成するために必要なすべての機能を備えた高度なエッチャー/アッシャーです。その包括的な機能により、多種多様なエッチング/アッシング用途に適しています。高度なハードウェアおよびソフトウェア機能と統合された安全システムにより、Plasmalab 100はすべてのユーザーに一貫した信頼性の高いエッチング/アッシング性能を提供します。