中古 OXFORD Plasmalab 100 #293830473 を販売中

OXFORD Plasmalab 100は、高度なサンプル調製および成膜アプリケーション用に設計されたエッチャー/アッシャー装置です。これは、低電子電圧を備えたマルチカソードのエッチャーとアッシャーの組み合わせです。パターンデザインとプロセスパラメータの選択に完全な柔軟性を提供し、標準基板で動作することができます。Plasmalab 100は、3つの独立した20cm直径のエッチングチャンバーを備えており、それぞれ2つの移動マグネトロンカソードで構成されており、各チャンバーのデュアルおよびトリプルプロセスを可能にします。マグネトロンの高速スキャンと静的操作のオプションは、優れたエッチングの均一性と制御をもたらします。プロセスガスは異なる速度で導入されるため、常にエッチング/灰プロセスに最適な濃度になります。このシステムには、多数の設定可能なプロセスパラメータと機能が含まれています。陰極力は0と350 Wの間で置くことができ、エネルギーは1 Wの増分で変えることができます。プロセスの完全性を保証する安全インターロックおよび制御ユニットがあります。サンプルホルダーは、あらゆるタイプの基板に対応しています。OXFORD Plasmalab 100は、低温アッシング、誘電性エッチバック、伝統的な酸素または酸化剤ベースの攻撃的アッシングなど、幅広いアッシング技術を提供しています。さらに、機械はまた側面の不動態化および窒化をすることができます。工具のツールチェーンには、プロセス中に発生する可能性のある粒子や破片を除去するための低エネルギーイオン爆撃（LEIB）ツールも含まれています。ETCH/ASHプロセスは、質量分析計または光学干渉計のいずれかで現場で監視することができます。アセットには、モデルパラメータをすばやく調整するために使用できる統合リモート診断ツールもあります。Plasmalab 100は、サンプル調製やエッチングから成膜・加工まで、幅広い用途に適した非常に強力な装置です。その柔軟性と高度な機能により、最も要求の厳しいアプリケーションに最適なソリューションです。