中古 OXFORD Plasmalab 100 #293766784 を販売中

OXFORD Plasmalab 100は、精度と再現性が不可欠な研究および産業用途において優れた性能を提供するために設計された高度なエッチャーおよびアッシャー装置です。統合された低次元プラズマ源と急速なガス流量制御を組み合わせ、幅広い材料の精密エッチングとアッシングを可能にします。完全にプログラム可能な自動化システムは、プロセス品質とサイクルタイムの点で大きな利点を提供します。Plasmalab 100は、二重RFプラズマ源を備え、様々な材料の柔軟な処理を可能にします。エッチングガスによる電波吸収性に優れているため、別個の高真空ユニットを必要とせず、比類のないエッチングとアッシング速度、低残留形成、最適なプロファイル転送が可能です。統合された乱流プラズマ源は、異なる層を分離するための良好な表面品質と改善された選択性を提供します。どちらのソースも、信頼性が高く現場で実績のあるAC/DCコンバータを搭載しており、0。1％未満の精度で制御できます。OXFORD Plasmalab 100は、エンクロージャ、プロセスチャンバー、リモートコントロールユニット、オプションのサンプルストレージミキサーで構成されています。チャンバーは、超薄型ステンレス鋼構造と均一なプラズマ分布のための耐温性の石英ガラス窓で構成されています。両方のソースはチャンバーに統合され、完全に密閉されているため、高い安定性と低粒子の放出を提供します。チャンバーには、高いポンプ速度と低いバックグラウンド圧力を備えた強力な排気装置も装備されています。機能面では、Plasmalab 100は優れた柔軟性と制御を提供します。これは、電力設定とプロセスパラメータの広い範囲で、比類のないエネルギーと効率制御を備えています。これにより、最適化された結果を持つ再現性と正確なプロセスが可能になります。ユーザーフレンドリーなソフトウェアと直感的なグラフィカルインターフェイスは、広範なパラメーター範囲を持っており、ユーザーはさまざまな材料のための複数のエッチングとアッシングのレシピを作成して保存することができます。OXFORD Plasmalab 100の高度なプロセス制御ツールと詳細な記録保持は、比類のないトレーサビリティを提供します。Plasmalab 100は、比類のない性能を備えた革新的なエッチングおよびアッシング資産です。これは、比類のない制御、再現性、および精度を提供し、ユーザーに幅広い機能を提供します。これは、精度と最適化された結果を必要とする研究室や産業アプリケーションのための理想的なモデルになります。