中古 OXFORD Plasmalab 100+ ICP 380 #293817369 を販売中
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ID: 293817369
ヴィンテージ: 2009
Reactive Ion Etcher (RIE)
Process module
Process chamber inside-kit
Outside & Inside loadlock
Gas supply
PC
Pump
Power transfer
Chiller
2009 vintage.
OXFORDプラズマラブ100エッチャー/アッシャーは、様々な研究や産業用途に適した高度なプラズマエッチングシステムです。これにより、金属、ポリマー、セラミック材料などの異なる基板を高精度にエッチングおよびアッシャーすることができます。プラズマラブ100は低温、低消費電力のマイクロ波プラズマ源を備えており、幅広い材料や用途に適しています。OXFORD Plasmalab 100は、調整可能な入力無線周波数（RF）電力も備えており、ユーザーはサンプルに供給される電力を制御することができます。また、プラズマソースパラメータとエッチング条件の両方を包括的に制御し、ユーザーが特定の材料や要件に合わせてプロセスを最適化することができます。この高度なエッチングシステムは、高純度の酸素、窒素、およびアルゴンガス源を使用して、一貫したエッチング性能を確保します。プラズマラブ100には、高度な高精度の半自動ハンドリングユニットが搭載されており、最大3つの基板を同時に便利かつ安全に処理できます。これにより、ユーザーはより大きな領域を高精度で短時間で処理することができます。OXFORD Plasmalab 100はまた、幅広いプロセスガス（例えば、二酸化炭素、酸素、塩素など）との互換性を確保し、このエッチャーを非常に汎用性の高いものにします。Plasmalab 100はユーザーフレンドリーで高度なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を提供しており、ユーザーはすべてのプロセスパラメータを監視および制御できます。また、USB経由でデータロギング機能を提供し、重要なプロセスパラメータの後処理と記録を行います。また、エッチングおよびアッシング操作中にマシンのさまざまなパフォーマンスパラメータを追跡できるオンボード診断システムもあります。OXFORD Plasmalab 100は、豊富な機能と制御オプションを備え、幅広いエッチング用途に最適です。
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