中古 OXFORD Plasmalab 100+ ICP 380 #293610678 を販売中

OXFORD Plasmalab 100+ICP 380エッチャー/アッシャーは、効率的な材料調製と大規模で複雑な製造プロセスを可能にするように設計された高度なツールです。この汎用性の高いシステムは、ナノ加工と微細加工のためのエッチングとアニーリングオプションの広い範囲を提供しています。システム制御ソフトウェア、ICPソース、基板ホルダー、チャンバーの4つの基本コンポーネントで構成されています。システム制御ソフトウェアは、学習して使いやすい直感的なユーザーインターフェイスをユーザーに提供します。OXFORD PLASMALAB 100 ICP 380の実行に関わるすべてのタスクは、所望の圧力を設定したり、エッチパラメータを選択したり、所望のプログラミング実行を設定したりするなど、グラフィカルユーザーインターフェイスから管理できます。このインターフェイスはまた、精密材料の準備を最大限にするために、高度なエッチングとアニーリングオプションの範囲を提供します。ICPソースは、さまざまな材料の表面を効率的にエッチングして準備するために、アルゴン、酸素、または他のガスを使用して高密度プラズマアークに電力を供給します。このICPソースは非常に信頼性が高く、最小限のメンテナンスが必要です。それに毎回質の終わりおよび厳密な結果のユーザーを保障する印象的な平均余命があります。基板ホルダーは、プリント基板、シリコン、ガラスなどの表面材料を安全かつ正確に保持するように設計されています。このホルダーは調節可能で、多数の製造技術を可能にするために必要なあらゆる方向に実質的に動かすことができます。PLASMALAB 100-ICP 380のチャンバーは、腐食に強く、重要なエッチングおよびアニーリングプロセスの制御環境を維持する変調鋼で形成されています。それは完全に均一なガスの流れ、真空の排水、ガスの自動冷却および出口、および室内温度調整を特色にします。これらの機能はすべて、最高レベルの精度と精度、安全な作業環境を確保するために協力しています。全体として、OXFORD PLASMALAB 100-ICP 380エッチャー/アッシャーは、効率的な材料調製と高度で複雑な製造プロセスに幅広い機能を提供します。信頼性の高いICPソース、制御可能な基板ホルダー、耐腐食性チャンバーを使用して、毎回精度と正確な結果を保証します。その高度なエッチングとアニーリングオプションは、その機能をさらに拡張し、複雑な加工および材料調製アプリケーションに最適なツールにします。