中古 OXFORD 100 #293824960 を販売中

ID: 293824960
ウェーハサイズ: 2″ / 3″ / 4″ / 5″ / 6″ / 8″ / 12″
ヴィンテージ: 2013
Reactive Ion Etcher (RIE), 2″ / 3″ / 4″ / 5″ / 6″ / 8″ / 12″ Plasma source: 13.56 MHz RF, 0–600 W Process gases: Cl₂: 0–100 sccm BCl₃: 0–100 sccm CH₄: 0–50 sccm Ar: 0–100 sccm NH₃: 0–100 sccm CHF₃: 0–200 sccm N₂O: 0–200 sccm Materials: GaAs, GaN, Si, SiC Wafer thickness: 0.4 – 1.5 mm Etch rate: GaAs ≥ 10 nm/min RF power supply: HiLight 136+, 600 W, 13.56 MHz APC pressure control range: 1 – 60 mTorr ALCATEL ATH400M Process chamber vacuum pump ALCATEL ATP150 Transfer chamber vacuum pump Chamber temperature range: Room temperature - 70°C Gas cabinet Control system Chiller 2013 vintage.
OXFORD 100+は、金属、シリコン、その他の半導体材料に最適な最先端のエッチャーおよびアッシャーシステムです。これは、エッチングとアッシャーモードの両方で温度を個別に手動で制御できる先駆的で高度な熱設計を誇っています。これにより、半導体業界の幅広い用途に最適であり、ユーザーは微細電子部品を作成するために使用される繊細な材料の高精度処理を実行することができます。信頼できる安定化のために設計されている100+は長い持続期間プロセスに完全に適しています。耐久性のあるタンク設計や、コレクターの建設における希少材料の使用など、大胆な革新は、比類のないレベルの精度を保証します。低応力条件の最適化により、非常に精密なエッチング処理も可能になります。OXFORD 100+は、正確な温度制御と組み合わせることで、精密で繊細なエッチングやアッシング作業に最適です。安全性に関しては、100+はすべての期待を上回っています。ユーザーフレンドリーな自動安全システムや最高級の材料など、さまざまな堅牢な安全機能により、ユーザーとそのマシンの両方が常に保護されています。高解像度の温度センサーとエアフィルターの組み合わせは、有害ガスや気化したヘイズ粒子を効果的に濾過することを意味し、安全で清潔な雰囲気を確保します。最終的に、OXFORD 100+は、最新のエッチングとアッシャー技術を提供します。優れた革新的な機能を備えたこの最先端のシステムは、ユーザーが簡単かつ安全に繊細な材料で正確で均一で信頼性の高い操作を実行することを可能にします。100+は、次のレベルのエッチングとアッシング性能を必要とする熟練したエンジニアに最適です。
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