中古 MRC RIE-51 #9382964 を販売中

MRC RIE-51は、エッチングおよびアッシングプロセスに大きな利点と柔軟性を提供する、高度なプラズマエッチャー/アッシャーです。モジュール設計と幅広いプロセスとオプションを備えたRIE-51は、さまざまな業界やハイエンドの研究環境での高度なドライエッチングとアッシングプロセスに適しています。MRC RIE-51のモジュラー設計により、すべてのエッチプロセスチャンバ部品をカスタマイズし、プロセスの柔軟性、効率、再現性を最大限に高めます。400°Cまでのチャンバー温度と0。1から2。0 torrまでの圧力範囲で、装置のプロセス能力は非常に広範囲のアプリケーションをカバーします。それはほとんどのガスの化学薬品と互換性があり、高性能のガスの導入のろ過および優秀なガスの流れ制御があります。高真空ポンプは、迅速かつ正確な真空ポンプだけでなく、低メンテナンスを提供します。統合された直感的な制御システムは、効率的なプロセス制御、温度および圧力監視、および全体的なユニット監視を提供します。さらに、高度な安全機能により、オペレータの安全性を確保します。エッチソースは2つのゾーンに分けられ、圧力、温度、流量などの多数のパラメータが独立して制御されます。また、最適にマッチした無線周波数（RF）加熱、エッチング、プリバイアス技術も備えています。これにより、ユーザーは特定のニーズに合わせてエッチングプロセスをカスタマイズできます。RIE-51はまた、ウェットとドライクリーニングの両方を含む高度なクリーニング機能を提供しています。ウェットクリーニングには、さまざまな化学物質を使用したシングルステップまたはデュアルステップクリーニングを含む幅広いオプションがあり、最大の洗浄効率を実現しています。プラズマトーンクリーニング、デガ、クエンチなどの高度なドライクリーニングオプションは、最も困難なソフトエッチングまたはハードマテリアルエッチング作業に使用できます。MRC RIE-51の優れた再現性と高いプロセス能力により、ウェーハエッチングやアッシング、MEMS加工、高度なSOIデバイス製造など、幅広い用途に適しています。また水素の終了、熱コートの取り外し、および可変的な頻度エッチング機能を含む先端技術の選択を特色にします。モジュール性と高度なオプションの組み合わせにより、ユーザーはニーズに合わせてマシンを調整し、効率的で費用対効果の高いソリューションにすることができます。