中古 MEMSSTAR ORBIS 3000 #293814967 を販売中

MEMSSTAR ORBIS 3000は、水平と垂直の両方の構成で設計されたエッチャー/アッシャー装置で、プロセスの柔軟性と高スループットを可能にします。半導体ファブや実用化センターで使用される信頼性の高い生産クラスのプラットフォームに基づいています。このシステムは、高効率のプラズマエッチング/アッシング処理を利用して、鋭いエッジ、正確なパターン、均一なライン幅を実現します。ORBIS 3000は、従来のドライエッチング技術と比較して優れた再現性と信頼性で高度なプロセス制御を提供するためのプロセス制御と機能を備えています。MEMSSTAR ORBIS 3000は、高度なガス供給ユニットを使用して、正確で安定したガスの流れを提供し、一貫したプロセス結果を保証します。さらに、基板バイアスジェネレータは、エンドポイント検出のために基板バイアスを自動的に調整し、ウェーハ全体に均一なエッチングを施して所望のパターンを生成します。ORBIS 3000では、プロセス制御用の2つのインターロックと、オフ軸アライメント用のパターンマッチングアルゴリズムを採用しています。エッチング工程は、ガス吸入、RFパワーアプリケーション、ガスエッチング/アッシング、チャンバー/基板洗浄、モニター結果などの一連のステップで構成されています。このシーケンスは、基板温度、室圧、プラズマ組成の変動に応じてRFパワーとガスの流れを調整するリアルタイムプロセスコントローラによって監視されます。MEMSSTAR ORBIS 3000は、直径9インチ、青銅色ターボポンプ8インチ、真空漏れ検出機を備えたオイル拡散ポンプを備えたチャンバーです。このツールは、6500mTorrまで動作することができます。上部と下部の電極には、5度の回転±の電気駆動と25mmのZ軸ストロークがあります。全体として、ORBIS 3000はエッチングプロセスの最適化を支援するさまざまな機能を備えた高度なエッチャー/アッシャー資産です。従来のドライエッチング技術に比べ、加工の柔軟性と再現性に優れ、幅広い用途で安定した高精度な結果を得ることができます。