中古 MATTSON Paradigme SI #9259601 を販売中

MATTSON Paradigm SIは、デバイス製造に使用する多種多様な材料を正確にパターン化するために設計された高度なエッチャー/エイサー装置です。このシステムは、超高解像度スキャンユニット、真空送り機構、圧力制御ガス、専用パターニングチャンバーの3つの主要コンポーネントで構成されています。このスキャン機は、特許取得済みのスキャン技術を使用して、最適なエッチング収率のために基板が均等に露出するようにします。このツールは、時間の経過とともにパターン化プロセスパラメータの可能な限り高い精度と再現性を得るために設計されています。さらに、アセットは高度なソフトウェアスイートを使用しており、ユーザーにこれまでにないエッチングプロセスの制御を提供します。真空送り機構は、エッチング処理の制御環境を提供するように設計されています。この真空送りモデルは、チャンバー内の残留ガスを排除し、エッチングプロセスパラメータが時間の経過とともに一貫していることを保証します。さらに、この装置は、パターンパターンが既存の基板輪郭と物理的に一致するようにするのに役立ちます。圧力制御ガスは、エッチング剤の正確かつ均一な分布を提供します。このシステムはエッチング剤の流れを利用してエッチングチャンバーを連続的に充填します。これにより、エッチング処理が均一かつ最大限の効率で行われることが保証されます。さらに、最適なパターニングに必要なエッチング剤の圧力と濃度を正確に制御します。専用のパターニングチャンバーは、複数のレイヤーを同時に迅速にパターニングできるように設計されています。また、1つのパスでフルパターンを作成することもできます。これにより、全体的な生産時間とコストを削減できます。全体として、MATTSON Paradigm SIは、さまざまな材料で複雑なパターンを生成するための信頼性と費用対効果の高い方法を提供する高度なエッチャー/アセルマシンです。超高解像度スキャン技術、真空送り機構、圧力制御ガスを組み合わせることで、エッチングプロセスの比類のない制御を実現します。さらに、専用のパターニングチャンバーは、各パターンが正確に整列され、最小の後処理で完璧であることを保証するのに役立ちます。