中古 MATTSON Aspen II #293830478 を販売中
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ID: 293830478
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
Inductively Coupled Plasma (ICP) system, 8"
1997 vintage.
MATTSON Aspen IIは、優れた性能と品質の結果を提供するように設計された高度なエッチングおよびアッシング装置です。エッチングとアッシング技術の最新の技術革新のすべてを搭載し、システムは、優れた結果を提供するために、さまざまなプロセスに関与する時間を大幅に削減するように設計されています。Aspen IIは、フーリエ変換ベースのサーマルイメージングユニットを搭載しており、熱イベントを記録し、高速エッチングとアッシングを可能にします。また、RF電源と高周波ジェネレータを内蔵し、温度、圧力、時間を正確に制御し、最適なエッチングとアッシング性能を実現します。MATTSON Aspen IIの高度なサンプルホルダーは、サンプルの迅速かつ簡単なローディングとアンロードを可能にし、プロセス全体の制御と信頼性を向上させます。サンプルホルダーは、正確なエッチングとアッシングを保証するために、正確な温度と圧力を維持します。自動認識機能は、エッチングおよびアッシング互換性のある金属を容易に識別し、金属タイプに応じてプロセスパラメータを適応させ、一貫した信頼性の高い性能を実現します。このツールは、独自のAdvanced Etch Application Module (AEAM)も備えています。このモジュールは、材料の種類に応じたプロセスパラメータの精密な微調整、プロセスサイクルとパラメータの監視、およびログエッチングとアッシング操作を可能にします。このモジュールを使用すると、繰り返しアプリケーションのレシピをプログラムして保存することもできます。Aspen IIは操作とメンテナンスが簡単で、ユーザーフレンドリーで直感的な設計により、ユーザーは目的のプロセスパラメータを選択し、カスタマイズされたエッチングとアッシングアプリケーションを素早くセットアップできます。組み込みのプロセスマネージャを使用すると、ユーザーは資産のLCDタッチスクリーンを介して操作を簡単に監視および制御できます。MATTSON Aspen IIは、多くのアプリケーションに強力なエッチングとアッシング機能を提供します。ステンレス、アルミニウム、シリコンなど様々な金属に対応し、幅広い用途で優れた成果を発揮します。高度な機能と堅牢なデザインを備えたAspen IIは、優れた性能、品質の結果、迅速な処理時間を求める専門家にとって理想的なエッチングおよびアッシングモデルです。
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