中古 MATRIX System One 106 #9098102 を販売中
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ID: 9098102
ウェーハサイズ: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent controller:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF Water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80° to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station
Controller:
Gas flows: Up to 3
RF Power: 100 to 500 W
Process pressure
Absolute endpoint time
Optical endpoint parameters
Gas controller:
Substrate positioning
Pressure controller.
MATRIX Equipment One 106は、半導体実験室環境で使用するためのフル機能のエッチングおよびアッシングシステムです。これは、高速サイクル時間、高精度、および低コストでウェーハ上の金属パターンを製造する信頼性の高い方法をお探しの方に最適なソリューションです。このユニットは、最大8インチウェーハのエッチングとアッシングが可能です。Machine One 106は、最良のアッシングとエッチング結果を保証するために高度な技術機能を使用しています。その高精度、反復可能なプロセス制御と高速サイクルタイムは、生産と研究開発活動に最適です。水平方向に回転するエッチングとアッシングのプラットフォームを使用して、精度を向上させます。このツールはまた、ウェーハの適切なエッチング、クリーニング、およびコンディショニングを確実にするための自動逆転アセットと統合されています。MATRIX Model One 106には、調整可能なRFドライバ電源、調整可能なロードロック、調整可能なガス供給装置、および調整可能な周波数発生器が含まれています。調整可能なシングルまたはダブルサイクルエッチングとアッシングモードを備えているため、特定のニーズに合わせてプロセスを調整できます。調節可能なRFの運転者はまたSystem One 106が異なったガスおよび液体の混合物と使用されるようにします従っていろいろな材料との単位を作動できます。MATRIX Machine One 106はメンテナンス性が低くユーザーフレンドリーなデザインです。読みやすく直感的なユーザーインターフェイスを備えており、迅速かつ正確な操作が可能です。このツールは、幅広い温度および圧力環境で動作することができます。ウェーハを安全かつ正確に処理するために、複数の安全機能と複数の監視機能を備えています。Asset One 106には、効率的で信頼性の高いエッチングとアッシングのためのさまざまなコンポーネントが装備されています。これは、RF環境の清潔さを確保するように設計されたエンクロージャを持っており、その調整可能性は、エッチングプロセスの微調整を可能にします。モデルの高精度は、エッチングとアッシングのプロセスが材料を目的の領域に導き、無駄を最小限に抑えることを保証します。MATRIX Equipment One 106は、研究開発および生産用途向けに、低コストで信頼性の高いエッチングおよびアッシングソリューションを提供します。ウェーハの高速サイクルタイムと信頼性の高い金属パターンを取得したい人に最適です。
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