中古 MATRIX System One 106 #9098085 を販売中
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ID: 9098085
ウェーハサイズ: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent control of:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80°C to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station.
MATRIX Equipment One 106は、Lockheed Martin Advanced Energy Technologiesが開発した完全自動化された高性能エッチャー/アッシャーです。これは、薄膜コーティングシステムで一般的に使用されるMATRIX X-Yリニアモータ機構に基づいています。高精度・高速で、誘電体から金属など幅広い材料への応用に適しています。このユニットは、基板全体にわたるコーティング厚の高分子均一性を提供し、あらゆる方向に均一なエッチング/アッシング成長率を確保するように設計されています。単位の中心に精密X-Y線形モーターの多軸単位があります。これらのモータは、X-Y平面で1マイクロ秒の解像度でエッチヘッドを移動します。エッチヘッドは真空チャンバーに配置され、エッチングと灰処理が行われます。エッチング中は、真空チャンバを調整して、異なる基板に最適なエッチング率を得ることができます。圧力、温度、ガス組成も調整可能です。温度は1000°Cまで達することができ圧力は200Paの最高まで調節可能です。さらに、Machine One 106には、基板の最適な処理を保証するために、診断駆動の自動テストツールが組み込まれています。このアセットにより、エッチングとアッシングプロセスが最大限の精度で行われます。基質はカルコゲナイド、石英のような、チタンの昇華物、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、アルミニウムおよび他の材料である場合もあります。MATRIX Model One 106は、最も要求の厳しい産業プロジェクトのニーズを満たすために使用できる堅牢な機器です。高精度で、高い再現性と高精度を有しています。このシステムが提供する高いプロセス許容差により、プロトタイピング、機能テスト、および製品製造に適しています。また、高度な制御ユニット技術を使用して、各エッチング層の高い均一性を保証します。エッチャー/アッシャーは非常に信頼性が高く、メンテナンスが容易です。そのマシンのバックアップは、ユニットがどのような環境でも動作可能であることを保証するのにも役立ちます。
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