中古 MATRIX System One 105 #9098100 を販売中
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ID: 9098100
ウェーハサイズ: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor controlled
Single wafer
Single cassette
Independent control of pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
ENI OEM-6 RF water cooled generator: 600 W
Wafer processing environment
Electrode assembly
Multi-step (3 Steps and over etch) process program
Butterfly valve
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass Flow Controllers (MFCs): TG 5 SLPM, 300 SCCM
Closed-loop control of substrate temperature (Temperature range: 80°C to 250°C)
Pin movement: Up and down.
MATRIX Equipment One 105は、高度な材料加工機能を提供する高品質のエッチャー/アッシャーです。この高度なエッチャーは、シリコン、ガラス、金属、合金などの幅広い材料を処理することができます。システムワン105には精密エレクトロエッチングステーション、プラズマエッチング用ロータリーステーション、イオンミリング用スパッタステーションがあります。それは事前にプログラムされたライン設定および高精度な結果を可能にする自動ローディングおよび荷を下す単位と作動します。この機械は高度の柔軟性を特色にし、同じ周期の異なったタイプの材料を扱うことを可能にします。また、デリケートな部品や材料への損傷を回避するフォルト保護ツールが内蔵されています。エッチャーは、材料が均等にそして所望の温度に加熱されることを保証する革新的な加熱アセットを備えています。これにより、材料や温度範囲に関係なく、最適なエッチング結果が保証されます。さらに、エッチャーには、最適な結果を得るための一貫したエッチング処理を監視および維持する制御モデルが含まれています。また、複数のエッチングサイクルを可能にし、自動調整制御機能を備えているため、精度と精度が向上します。精度と耐久性の面では、MATRIX Equipment One 105エッチャーは、最高レベルの精度と耐久性を手頃な価格で提供します。イオンミリングは高精度かつ高精度な結果を提供し、プラズマエッチングは機能定義を改善します。これにより、エッチャーは精度と精度を必要とする重要なデバイス製造タスクに最適です。エッチャーには強力なプログラマブルコントロールユニットも含まれており、ユーザーはプログラミングと制御の詳細なレベルにアクセスできます。これにより、エッチングの材質や種類に関係なく、正確かつ一貫したエッチングが可能になります。高度に専門化された加工作業用に設計されたエッチャーは、微細加工部品の取り扱いに適しています。コンパクトで堅牢なユニットで、ラボや他の生産環境での使用に最適です。これにより、System One 105は使いやすく、信頼性が高く、正確で費用対効果の高いエッチャーを探しているユーザーにとって理想的な選択肢となります。
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